[实用新型]光盘薄膜制备中磁控溅射靶材装置无效
| 申请号： | 201020514920.2 | 申请日： | 2010-09-03 |
| 公开（公告）号： | CN201793724U | 公开（公告）日： | 2011-04-13 |
| 发明（设计）人： | 郑飞璠;马琰;李明;刘娟;马超;周寒雪 | 申请（专利权）人： | 河南凯瑞数码有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 安阳市智浩专利代理事务所 41116 | 代理人： | 张智和 |
| 地址： | 455000 河南省安阳市高新*** | 国省代码： | 河南;41 |
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| 摘要： | 光盘薄膜制备中磁控溅射靶材装置内面为凹面，内底面由中心至外逐渐呈下坡阶梯型设计为非平面形状，分为中心孔区、平面区、增大区和挡板区，使靶材由内至外逐渐增大与盘片的距离，改变了盘片中、外部的溅镀层厚度，使得薄膜形成的厚度由内至外逐渐变薄，从而改变了光穿透率，使光穿透率在盘片上由内至外逐渐升高，达到梯度溅射的目的。 | ||
| 搜索关键词： | 光盘 薄膜 制备 磁控溅射 装置 | ||
【主权项】：
光盘薄膜制备中磁控溅射靶材装置，由溅镀靶材组成，其特征在于：磁控溅射靶材装置内面为凹面，内底面由中心至外逐渐呈下坡阶梯型，分为中心孔区(1)、平面区(2)、增大区(3)和挡板区(4) 。
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