[实用新型]具有真空泵保护结构的真空溅射镀膜设备无效
| 申请号： | 201020186355.1 | 申请日： | 2010-05-11 |
| 公开（公告）号： | CN201704399U | 公开（公告）日： | 2011-01-12 |
| 发明（设计）人： | 黄国兴 | 申请（专利权）人： | 赫得纳米科技(昆山)有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34 |
| 代理公司： | 南京纵横知识产权代理有限公司 32224 | 代理人： | 董建林 |
| 地址： | 215300 *** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种具有真空泵保护结构的真空溅射镀膜设备，涉及溅射镀膜设备技术领域，包括分子泵，箱体，真空腔体，真空泵，在箱体内设置有真空腔体，其特征在于：还包括真空泵外罩和真空泵内罩，所述分子泵设置在箱体的上部，在分子泵与箱体相连接的位置设置有真空泵外罩，在真空泵外罩里面设置有真空泵内罩，所述真空泵与真空腔体贯通连接，且真空泵内罩将真空泵叶片罩住。本实用新型解决了现有技术中，靶材溅射时，中性的靶原子(或分子)在沉积于基片上形成薄膜的同时也会沉积于与真空腔体相连接的真空泵的叶片上的问题，提供了一种真空泵防护结构，能够防止靶材溅射时中性的靶原子(或分子)沉积于真空泵的叶片上，造成真空泵的失效。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 真空泵 保护 结构 真空 溅射 镀膜 设备 | ||
【主权项】：
一种具有真空泵保护结构的真空溅射镀膜设备，包括分子泵，箱体，真空腔体，真空泵，在箱体内设置有真空腔体，其特征在于：还包括真空泵外罩和真空泵内罩，所述分子泵设置在箱体的上部，在分子泵与箱体相连接的位置设置有真空泵外罩，在真空泵外罩里面设置有真空泵内罩，所述真空泵与真空腔体贯通连接，且真空泵内罩将真空泵叶片罩住。
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