[实用新型]具有交替电磁场的矩形平面磁控靶有效
| 申请号： | 201020186323.1 | 申请日： | 2010-05-11 |
| 公开（公告）号： | CN201704401U | 公开（公告）日： | 2011-01-12 |
| 发明（设计）人： | 黄国兴 | 申请（专利权）人： | 赫得纳米科技(昆山)有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/34 |
| 代理公司： | 南京纵横知识产权代理有限公司 32224 | 代理人： | 董建林 |
| 地址： | 215300 *** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本实用新型公开了一种具有交替电磁场的矩形平面磁控靶，涉及溅射镀膜设备技术领域，包括靶材本体，其特征在于：还包括磁体，所述磁体设置在靶材本体的上部，所述磁体包含两组电磁铁，两组电磁铁相互交叉设置。本实用新型解决了现有技术矩形平面磁控靶中永磁体磁场分布及水平场强的局限性，造成靶材利用率较低，靶材利用率在30％左右，同时永磁体磁性稳定性较差的问题，本实用新型提供了一种结构简单，使用方便，能够增加靶材利用率的具有交替电磁场的矩形平面磁控靶。靶材利用率可提升到65％左右，降低了靶材成本，延长换靶周期降低停机时间。同时本实用新型采用电磁铁在使用过程中不会产生消磁现象，能够稳定产品的品质，节约了成本。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 交替 电磁场 矩形 平面 磁控靶 | ||
【主权项】：
一种具有交替电磁场的矩形平面磁控靶，包括靶材本体，其特征在于：还包括磁体，所述磁体设置在靶材本体的上部，所述磁体包含两组电磁铁，两组电磁铁相互交叉设置。
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