[发明专利]投影式斜坡曝光光刻机装置与方法有效
| 申请号： | 201010606317.1 | 申请日： | 2010-12-22 |
| 公开（公告）号： | CN102540748A | 公开（公告）日： | 2012-07-04 |
| 发明（设计）人： | 张俊;闻人青青;陈勇辉 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 | 代理人： | 王光辉 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种投影式斜坡曝光光刻机，依次包括具有用于限制视场大小的狭缝的照明系统，掩模，倾斜光学镜组，物镜，基底，其中，该掩模上的标记图案经过倾斜光学镜组、该物镜在基底上方形成斜坡空间像，利用该斜坡空间像对该基底进行斜坡曝光。 | ||
| 搜索关键词： | 投影 斜坡 曝光 光刻 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种投影式斜坡曝光光刻机，沿光传播方向依次包括：照明系统，用以出射一光束；掩模，该掩模上形成有标记图案，该光束照射该掩模上的标记图案产生包含有该标记图案信息的出射光；倾斜光学镜组；物镜；以及基底，该基底具有斜坡；其中，该出射光经该倾斜光学镜组、该物镜在该基底的斜坡上方形成斜坡空间像，并利用该斜坡空间像对该基底的斜坡进行曝光。
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