[发明专利]一种L10-FePt颗粒薄膜的制备方法有效

专利信息
申请号: 201010585896.6 申请日: 2010-12-14
公开(公告)号: CN102061451A 公开(公告)日: 2011-05-18
发明(设计)人: 李海波;刘梅;张玉梅;孟祥东;陈芳慧 申请(专利权)人: 吉林师范大学
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C23C14/58;C23C14/16
代理公司: 长春菁华专利商标代理事务所 22210 代理人: 陶尊新
地址: 136000 吉林*** 国省代码: 吉林;22
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摘要: 一种L10-FePt颗粒薄膜的制备方法,涉及利用磁场预退火制备高有序度的L10-FePt颗粒薄膜的方法。本发明降低了FePt薄膜的有序化温度、促进L10-FePt薄膜的(001)织构生长、提高了磁性能;步骤一、在室温下,采用直流磁控溅射法在基片上制备FeAg纳米薄膜;步骤二、将步骤一制备的FeAg纳米薄膜置于磁场中进行真空退火,获得退火后的FeAg纳米薄膜;步骤三、将步骤二获得退火后的FeAg纳米薄膜在室温下采用直流磁控溅射沉积Pt层后进行无磁场真空退火,获得L10-FePt/Ag薄膜。本发明所述方法可在任意基片上形成高有序度的、小晶粒尺寸的、晶粒间磁相互作用小的高性能L10-FePt/Ag薄膜。
搜索关键词: 一种 l1 sub fept 颗粒 薄膜 制备 方法
【主权项】:
一种L10‑FePt颗粒薄膜的制备方法,其特征是,该方法由以下步骤实现:步骤一、在室温下,采用直流磁控溅射法在基片上制备FeAg纳米薄膜;步骤二、将步骤一制备的FeAg纳米薄膜置于磁场中进行真空退火;获得退火后的FeAg纳米薄膜;步骤三、将步骤二获得退火后的FeAg纳米薄膜在室温下采用直流磁控溅射沉积Pt层后进行无磁场真空退火,获得L10‑FePt/Ag薄膜。
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