[发明专利]二氧化硅溶胶浸渍微弧氧化法制备镁合金微弧氧化膜无效
| 申请号： | 201010565212.6 | 申请日： | 2010-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN102041541A | 公开（公告）日： | 2011-05-04 |
| 发明（设计）人： | 邵忠财;赵瑞强;张璇 | 申请（专利权）人： | 沈阳理工大学 |
| 主分类号： | C25D11/30 | 分类号： | C25D11/30 |
| 代理公司： | 沈阳利泰专利商标代理有限公司 21209 | 代理人： | 李枢 |
| 地址： | 110159 辽*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 二氧化硅溶胶浸渍微弧氧化法制备镁合金微弧氧化膜，本发明公开了一种在镁合金表面制备复合陶瓷膜的工艺，其核心配方在溶胶制备和电解液配方上。电解液配方为：配方1：硅酸钠20％，氟化钾10％，氢氧化钠％.，微弧氧化时间15~20分钟。配方2：硅酸钠6~15g/L，硼酸钠2~5g/L，氢氧化钾3~5g/L，氟化钾3~6g/L，微弧氧化时间15~20分钟。溶胶的制备配方：正硅酸乙酯(TEOS，SiO2含量≥28.0％)；无水乙醇；盐酸：去离子水。本发明的优点在于：工艺流程、电解液配方简单，制备的陶瓷膜层均匀、细致，与基体的结合力好，耐腐蚀耐、高温性能有了很大的提高。 | ||
| 搜索关键词： | 二氧化硅 溶胶 浸渍 氧化 法制 镁合金 | ||
【主权项】：
二氧化硅溶胶浸渍微弧氧化法制备镁合金微弧氧化膜，其特征在于包括以下工艺流程为：脱脂(碱性化学除油)—超声波清洗—干燥—微弧氧化—清洗—干燥—溶胶浸渍提拉—微弧氧化—清洗—干燥(清洗用蒸馏水)碱性除油配方：碳酸钠10~20g/L，磷酸三钠10~20g/L，硅酸钠10~20g/L，OP乳化剂ml/L，温度为60~70℃，时间3~5分钟。微弧氧化电解液配方1：硅酸钠20％，氟化钾10％，氢氧化钠％.。配方2：硅酸钠6~15g/L，硼酸钠2~5g/L，氢氧化钾3~5g/L，氟化钾3~6g/L。
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