[发明专利]雾面转印膜结构无效

专利信息
申请号: 201010538423.0 申请日: 2010-11-10
公开(公告)号: CN102009540A 公开(公告)日: 2011-04-13
发明(设计)人: 韩久康 申请(专利权)人: 琨诘电子(昆山)有限公司
主分类号: B41M5/41 分类号: B41M5/41;B44C1/165
代理公司: 南京纵横知识产权代理有限公司 32224 代理人: 董建林;王寿刚
地址: 215321 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明涉及一种雾面转印膜结构,包括一基底薄膜层、一离型层、一硬化膜层、一饰纹层以及一黏着膜层。基底薄膜层包括由微粒子构成的抗眩光剂,使基底薄膜层具有一凹凸粗糙的上表面,离型层设置于基底薄膜层的上表面,硬化膜层设置于离型层的上表面,硬化膜层同样形成凹凸粗糙表面,饰纹层设置于硬化膜层的上表面,黏着膜层设置于饰纹层的上表面。本发明可精简雾面转印膜结构的制程工序,从而达到缩短工时、降低成本等功效。同时,本发明还可维持硬化膜层的完整性,保持膜层结构强度,提高产品的品质。
搜索关键词: 雾面转印 膜结构
【主权项】:
雾面转印膜结构,其特征在于包括:一基底薄膜层,包括由微粒子构成的抗眩光剂,使该基底薄膜层具有一凹凸粗糙的上表面;一离型层,设置于该基底薄膜层的上表面;一硬化膜层,设置于该离型层的上表面;一饰纹层,设置于该硬化膜层的上表面;一黏着膜层,设置于该饰纹层的上表面。
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