[发明专利]立体图纹形成方法无效
| 申请号： | 201010533687.7 | 申请日： | 2010-10-29 |
| 公开（公告）号： | CN102141728A | 公开（公告）日： | 2011-08-03 |
| 发明（设计）人： | 张建明;吴荣钦;庄万历 | 申请（专利权）人： | 仁宝电脑工业股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G03F1/00 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 逯长明 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开一种立体图纹形成方法，步骤包含：提供一成型工件，其外表面与内表面分别具有一第一光阻层与一第二光阻层；将成型工件置于在一透光治具上；曝光及显影第一光阻层与第二光阻层，使得第一光阻层形成一图案化光阻层，第二光阻层形成一蚀刻保护层；蚀刻成型工件，以使成型工件的外表面形成一立体图纹；以及移除图案化光阻层与蚀刻保护层。 | ||
| 搜索关键词： | 立体图 形成 方法 | ||
【主权项】：
一种立体图纹形成方法，其特征在于，包括：提供一成型工件，其外表面与内表面分别具有一第一光阻层与一第二光阻层；将该成型工件置于在一透光治具上；曝光及显影该第一光阻层与该第二光阻层，使得该第一光阻层形成一图案化光阻层，该第二光阻层形成一蚀刻保护层；蚀刻该成型工件，以使该成型工件的该外表面形成一立体图纹；以及移除该图案化光阻层与该蚀刻保护层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于仁宝电脑工业股份有限公司，未经仁宝电脑工业股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201010533687.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
