[发明专利]基于衍射标记分析的对设计布局中的优化图案的选择

摘要

本发明是基于衍射标记分析的设计布局中优化图案的选择。本发明大体上涉及基于衍射标记分析选择最优的图案，更具体地，涉及使用最优的图案用于光刻成像的掩模优化。对来自设计布局的初始的较大组的目标图案的多个目标图案的每一个产生相应的衍射图。从多个衍射图中识别衍射标记。多个目标图案被分成多个衍射标记类，在特定的衍射标记类中的目标图案具有类似的衍射标记。选择子组目标图案以覆盖所有可能的衍射标记类，使得子组目标图案表示用于光刻过程的设计布局的至少一部分。多个目标图案的分类步骤可以通过基于类似的衍射标记的预定规则进行控制。预定的规则包括多个衍射标记类之间存在的包含关系。

主权项

一种从设计布局中选择子组目标图案的方法，所述设计布局配置成通过光刻过程成像到衬底上，所述方法包括下列步骤：为来自所述设计布局的初始的较大组的目标图案中的多个目标图案产生相应的衍射图；从来自初始的较大组的目标图案中的所述多个目标图案的不同衍射图中识别衍射标记；将来自初始的较大组的目标图案中的所述多个目标图案分成多个衍射标记类，在特定的衍射标记类中的目标图案具有类似的衍射标记；和选择作为代表性组的目标图案的子组以包含预定数量的衍射标记类，使得所述代表性组的目标图案表示光刻过程的所述设计布局的至少一部分。