[发明专利]基于衍射标记分析的对设计布局中的优化图案的选择

权利要求书

1.一种从设计布局中选择子组目标图案的方法，所述设计布局配置成通过光刻过程成像到衬底上，所述方法包括下列步骤：

为来自所述设计布局的初始的较大组的目标图案中的多个目标图案产生相应的衍射图；

从来自初始的较大组的目标图案中的所述多个目标图案的不同衍射图中识别衍射标记；

将来自初始的较大组的目标图案中的所述多个目标图案分成多个衍射标记类，在特定的衍射标记类中的目标图案具有类似的衍射标记；和

选择作为代表性组的目标图案的子组以包含预定数量的衍射标记类，使得所述代表性组的目标图案表示光刻过程的所述设计布局的至少一部分。

2.如权利要求1所述的方法，其中，基于衍射标记的相似性、通过预定的规则控制对所述多个目标图案的分类。

3.如权利要求2所述的方法，其中，所述预定的规则包括在所述不同衍射标记组之间存在的包含关系。

4.如权利要求1所述的方法，其中，所述方法还包括：

使用所述代表性组的目标图案来优化用于光刻过程中的照射源。

5.如权利要求4所述的方法，其中，优化照射源的步骤包括调整入射在掩模上的辐射束的偏振分布。

6.如权利要求1所述的方法，其中，所述方法还包括：

使用所述代表性组的目标图案来优化用于光刻过程中的投影光学系统。

7.如权利要求6所述的方法，其中，优化投影光学系统的步骤包括在辐射束通过掩模之后操纵辐射束在光瞳平面中的波前。

8.如权利要求1所述的方法，其中，识别衍射标记的步骤还包括下列步骤：

识别每个衍射图中的峰；

存储在每个衍射图中所识别的峰的一个或更多个特征参数；和

分析所存储的所识别的峰的特征参数以产生每个衍射图的相应衍射标记类。

9.如权利要求8所述的方法，其中，每个衍射标记类包括一个或更多个相应的基向量。

10.如权利要求9所述的方法，其中，一维基向量表示共线峰，二维基向量表示在衍射图中识别的一对非共线峰。

11.如权利要求8所述的方法，其中，对于所识别的峰的将被存储的特征参数包括下列参数的一个或更多个：

峰的位置、峰的宽度、峰的振幅、峰的谐波指数以及峰与一个或更多个相邻峰的距离。

12.如权利要求1所述的方法，其中，产生相应的衍射图的步骤包括下列步骤：

生成与在每个初始的较大组的目标图案中的目标图案对应的相应的衍射级曲线；和

从每个所述衍射级曲线中去除零级峰。

13.如权利要求12所述的方法，其中，分析存储的所述识别的峰的特征参数的步骤包括：

识别所述衍射级曲线中的最强峰；

为包括所述衍射级曲线中的最强峰的每个共线峰构造相应的一维基向量；

为所述衍射级曲线中的每对非共线峰构造相应的二维基向量；

忽略所述衍射级曲线中存在的所有谐波；和

通过选择非重复的一维和二维基向量填写衍射标记类的列表。