[发明专利]一种高阻硅的电阻率测试方法无效
申请号: | 201010520562.0 | 申请日: | 2010-10-27 |
公开(公告)号: | CN102012461A | 公开(公告)日: | 2011-04-13 |
发明(设计)人: | 黎亚文;杨旭 | 申请(专利权)人: | 峨嵋半导体材料研究所 |
主分类号: | G01R27/14 | 分类号: | G01R27/14 |
代理公司: | 成都九鼎天元知识产权代理有限公司 51214 | 代理人: | 徐宏;吴彦峰 |
地址: | 614200*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本发明公开了一种高阻硅的电阻率测试方法,属于电阻率测试领域。该电阻率测试方法引进了高精密电阻率测试系统,在测试过程中的待测硅晶体表面处理工序增加了酒精擦除的步骤,并且通过多次实验选定了最为适当的测试环境,使得在保证高精密电阻率测试系统的性能得到很好发挥的同时,测试得出的电阻率值也相对比较稳定。通过本发明,能够精确并且稳定地测试电阻率>10000Ω·cm的高阻硅晶体。 | ||
搜索关键词: | 一种 高阻硅 电阻率 测试 方法 | ||
【主权项】:
一种高阻硅的电阻率测试方法,其特征在于,包含以下步骤:(1)将数控恒流源与直排四探针中的探针1和探针4相连接,测试设备与所述直排四探针中的探针2和探针3相连接;(2)将所述数控恒流源开机预热30分钟;(3)处理待测硅晶体的表面:喷砂去除所述待测硅晶体表面的玷污和表面氧化层,再用酒精将所述待测硅晶体擦净;(4)在无光照的环境中,调节室温和相对湿度,并且将经处理的所述待测硅晶体放置于测试台上;(5)调整所述直排四探针的高度使其与所述待测硅晶体相压合,此时所述数控恒流源通过所述探针1和所述探针4向所述待测硅晶体输出测试电流,其中所述测试电流的数值与所述直排四探针的探针系数相等;(6)向所述测试设备中输入所述待测硅晶体的类型、厚度、室温以及相对湿度,经所述测试设备分析后开始测试;(7)待测试完成后,所述测试设备将所有测试点的数据以电子表格的形式输出。
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