[发明专利]一种制作单晶硅绒面的方法及腐蚀液有效
| 申请号： | 201010519958.3 | 申请日： | 2010-10-26 |
| 公开（公告）号： | CN102181935A | 公开（公告）日： | 2011-09-14 |
| 发明（设计）人： | 李建飞;汪琴霞;黄镇;郭建东;樊选东 | 申请（专利权）人： | 江阴浚鑫科技有限公司 |
| 主分类号： | C30B33/10 | 分类号： | C30B33/10;C23F1/40 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 李玉秋;冯琼 |
| 地址： | 214443 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种用于制作单晶硅绒面的腐蚀液，以质量浓度计，包括：0.1％～0.5％的NaOH和/或KOH、5～8％的异丙醇和/或乙醇、0.3％～0.5％的乳酸钠、1％～2％的尿素和余量水。本发明通过选用乳酸钠和尿素作为添加剂，与碱溶液和醇溶液配合制成腐蚀液。实验结果表明，与现有技术相比，采用本发明提供的腐蚀液制备的单晶硅绒面对太阳光的反射率可以降低到6％～8％，本发明制备的单晶硅绒面具有更高的短路电流和更高的光电转换效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 制作 单晶硅 方法 腐蚀 | ||
【主权项】：
一种用于制作单晶硅绒面的腐蚀液，以质量浓度计，包括：NaOH和/或KOH 0.1％～0.5％；异丙醇和/或乙醇 5％～8％；乳酸钠 0.3％～0.5％；尿素 1％～2％；余量水。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于江阴浚鑫科技有限公司，未经江阴浚鑫科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201010519958.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：从放热的高温反应过程除去热量的装置和方法
- 下一篇：固体摄像装置
