[发明专利]双层曝光补偿方法

摘要

一种双层曝光补偿方法，本发明所提供的双层曝光补偿方法，将目标图案分为第一目标图案与第二目标图案，并分别转移至第一光罩、第二光罩，并计算第一光罩、第二光罩之间由于第一光罩、第二光罩的差异所引起的对准误差补偿值，在根据第二光罩在包含第四转移图案的衬底上形成第五转移图案时，充分考虑了由第一光罩和第二光罩的差异所引起的第四转移图案与第五转移图案之间的对准误差，在设置曝光参数时进行有效补偿，从而有效减小第四转移图案与第五转移图案之间的对准误差，满足对准规格的要求。其中，第四转移图案与第五转移图案合成目标图案。

主权项

一种双层曝光补偿方法，其特征在于，包括：提供衬底和目标图案，将目标图案分成第一目标图案和第二目标图案；将所述第一目标图案和第二目标图案分别转移至第一光罩和第二光罩上；获取第一光罩和第二光罩之间的对准误差补偿值；设置第二曝光参数，根据第二曝光参数和第一光罩在衬底表面形成第三转移图案，获得第三补偿参数；根据第三补偿参数修正第二曝光参数，获得第三曝光参数；根据第三曝光参数和第一光罩在衬底表面形成第四转移图案；根据第三补偿参数、第一光罩和第二光罩之间的对准误差补偿值，获得第四补偿参数；根据第四补偿参数修正第二曝光参数，获得第四曝光参数；根据第四曝光参数和第二光罩，在包含第四转移图案的衬底上形成第五转移图案，第四转移图案与第五转移图案合成目标图案。