[发明专利]用于近红外光学检查的系统和方法无效
| 申请号： | 201010508512.0 | 申请日： | 2010-10-15 |
| 公开（公告）号： | CN102072909A | 公开（公告）日： | 2011-05-25 |
| 发明（设计）人： | D·夏皮罗弗 | 申请（专利权）人： | 卡姆特有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/88 | 分类号： | G01N21/88;G01N21/35 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 马浩 |
| 地址： | 以色列米格*** | 国省代码： | 以色列;IL |
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| 摘要： | 本公开涉及用于近红外光学检查的系统和方法。一种用于缺陷检测的检查系统和方法，该方法包括：产生包括近红外光谱分量和可视光分量的第一光束；将第一光束的至少近红外光谱分量指引向被检查物体；将通过照射被检查物体产生的第二光束的近红外光谱分量指引向传感器；其中所述传感器对可见光辐射和近红外辐射敏感；由所述传感器产生响应第二光束的近红外分量的检测信号；和通过处理所述检测信号，检测被检查物体中的缺陷。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 红外 光学 检查 系统 方法 | ||
【主权项】：
一种用于缺陷检测的方法，该方法包括：产生包括近红外光谱分量和可见光分量的第一光束；将第一光束的至少近红外光谱分量指引向被检查物体；将通过照射被检查物体产生的第二光束的近红外光谱分量指引向传感器；其中所述传感器对可见光辐射和近红外辐射敏感；由所述传感器产生响应第二光束的近红外分量的检测信号；和通过处理所述检测信号，检测被检查物体中的缺陷。
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