[发明专利]一种光学扩散薄膜及其制备方法有效
| 申请号： | 201010507756.7 | 申请日： | 2010-10-15 |
| 公开（公告）号： | CN101957465A | 公开（公告）日： | 2011-01-26 |
| 发明（设计）人： | 霍新莉;赵保良;王旭亮;申跃生;熊跃彬 | 申请（专利权）人： | 中国乐凯胶片集团公司;合肥乐凯科技产业有限公司;保定乐凯薄膜有限责任公司 |
| 主分类号： | G02B5/02 | 分类号： | G02B5/02;G02B1/10;B32B3/30;B32B27/08 |
| 代理公司： | 石家庄冀科专利商标事务所有限公司 13108 | 代理人： | 郭绍华;李羡民 |
| 地址： | 071054 *** | 国省代码： | 河北;13 |
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| 摘要： | 一种光学扩散薄膜及其制备方法，该光学扩散膜包括透明基材，设置在透明基材一个表面上的扩散涂层和设置在透明基材另一个表面的防粘接涂层，所述的防粘接涂层的表面具有凹坑，所述凹坑所占的面积之和与所述防粘接涂层的面积之比为2∶100～99∶100；该光学扩散薄膜通过设置在防粘层表面的凹坑，达到光学扩散薄膜需要添加颗粒时才能具有的各种效果，增加光线的均化程度，提高了光线的利用率；该方法工序简单，成本低，并且环境友好。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光学 扩散 薄膜 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种光学扩散薄膜，它包括透明基材，设置在透明基材一个表面上的扩散涂层和设置在透明基材另一个表面的防粘接涂层，其特征在于，所述的防粘接涂层的表面具有凹坑，所述凹坑所占的面积之和与所述防粘接涂层的面积之比为2∶100～99∶100。
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