[发明专利]运送式基板处理装置中的节水型清洗系统无效
申请号: | 201010506663.2 | 申请日: | 2010-09-27 |
公开(公告)号: | CN102199007A | 公开(公告)日: | 2011-09-28 |
发明(设计)人: | 小泉晴彦;松元俊二 | 申请(专利权)人: | 住友精密工业株式会社 |
主分类号: | C03C23/00 | 分类号: | C03C23/00 |
代理公司: | 北京三幸商标专利事务所 11216 | 代理人: | 刘激扬 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明涉及一种运送式基板处理装置中的节水型清洗系统。可在维持高度的清洗性能的同时,大幅度地减少清洗水的使用量。在化学液处理区的下游侧,沿基板运送方向,排列多个清洗区。在最上游侧的清洗区中,设置桨处理用的清洗机构。在第2级以后的清洗区设置喷淋处理用的清洗机构,以及回收使用后的清洗水的箱。将由未使用的纯水形成的清洗水供向最下游侧的清洗区中的清洗机构。将使用后的清洗水按照阶梯方式依次送给上游侧的清洗区中的清洗机构。废弃最上游侧的清洗区的使用完的清洗水。在基板前端进入到最上游侧的清洗区之前,该清洗区中的清洗机构的清洗水开始排出,即使基板后端与该清洗区脱离之后,仍按照规定时间继续排出清洗水。 | ||
搜索关键词: | 运送 式基板 处理 装置 中的 节水 清洗 系统 | ||
【主权项】:
一种运送式基板装置中的节水型清洗系统,该系统设置于运送式基板装置中,通过清洗水对化学液处理后的基板进行清洗处理,其特征在于:包括:多个清洗区,其沿基板运送方向排列于化学液处理区的下游侧;桨处理用的清洗机构,其设置于最上游侧的清洗区;分别设置于第2级以后的清洗区的喷淋处理用的清洗机构和回收使用后的清洗水的箱;供水系统,其将由未使用的纯水形成的清洗水,供向最下游侧的清洗区中的清洗机构;阶梯方式的送水系统,其将各箱内的清洗水依次送给上游侧的清洗区中的清洗机构;排水系统,其将在最上游侧的清洗区的使用完的清洗水排出;按照下述方式设定来自该清洗区中的清洗机构的清洗水的排出开始时刻和排出结束时刻,该方式为:在基板前端进入最上游侧的清洗区的时刻之前,开始来自该清洗区中的清洗机构的清洗水的排出,在基板后端与该清洗区脱离的时刻之后,停止来自该清洗区中的清洗机构的清洗水的排出,并且确保将从最上游侧的清洗区中的清洗机构排出的清洗水的污染度维持在允许限度内,且在该限度附近所必需的清洗水的排出时间。
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