[发明专利]运送式基板处理装置中的节水型清洗系统

说明书

技术领域

本发明涉及在液晶面板用玻璃基板的各种处理等所采用的基板清洗装置，更具体地说，称为平流式的运送式基板处理装置中，相对过去可节制蚀刻液、剥离液等的化学液处理之后的清洗处理所使用的清洗水的使用量的节水型清洗系统。

背景技术

在液晶面板的制造中，在作为材料的大面积的玻璃基板的表面上，反复地进行抗蚀剂涂敷、显影、蚀刻、抗蚀剂剥离的各种处理，由此，在基板表面上形成集成电路。各种处理方式的代表性的方式之一属于称为平流方式的基板运送方式的基板处理装置，在沿水平方向运送基板的同时，在其表面上，反复进行各种处理。

比如，在平流式的蚀刻处理中，在以水平姿势或以在侧方倾斜的姿势沿水平方向运送的基板的表面上，在蚀刻区供给蚀刻液，接着，在冲洗区，通过清洗水进行表面清洗。通过图6，对平流式蚀刻处理中的基板清洗装置的过去典型的装置结构进行说明。

沿基板的运送方向，依次排列有蚀刻区1、第1冲洗区2A、第2冲洗区2B、最终冲洗区2C以及干燥区3。各区由独立的腔构成，分别设置为了进行基板运送而沿运送方向并列的多个运送辊。在蚀刻区1的出口附近，为了去除附着于基板的表面上的蚀刻液，比如，上下一组的气刀4、4按照夹持基板运送线的方式设置。在第1冲洗区2A、第2冲洗区2B以及最终冲洗区2C中，按照夹持基板运送线的方式分别设置向基板的两面排出供给清洗水的上下一对的喷淋系统5A、5B和5C。为了去除附着于基板的两个表面上的清洗水，在干燥区3按照夹持基板运送线的方式设置上下一对的气刀6、6。

清洗水与基板运送方向相反，按照最终冲洗区2C、第2冲洗区2B、第1冲洗区2A的顺序以阶梯方式供给。即，首先由未使用的纯水形成的清洗水从最终冲洗区2C中的喷淋系统5C、5C排出，对基板的两个面进行清洗。使用后的清洗水回收到设置于最终冲洗区2C中的箱7C的内。箱7C内的清洗水从第2冲洗区2B中的喷淋系统5B、5B排出，对基板的两个表面进行清洗。使用后的清洗水回收到设置于第2冲洗区2B中的箱7B的内。箱7B内的清洗水从第1清洗区2A中的喷淋系统5A、5A排出，对基板的两个表面进行清洗。将清洗使用完的清洗水废弃。

由此，清洗水的清洁度按照第1冲洗区2A、第2冲洗区2B、最终冲洗区2C的顺序提高，以少量的清洗水进行有效的清洗。

即，在基板运送线上行进的基板在蚀刻区1接受蚀刻处理，通过出口附近的气刀4，按照在两面没有干燥的程度，从两面去除蚀刻液，然后，在第1冲洗区2A，通过清洁度低(污染度高的)清洗水，对两个面预先进行清洗。将使用后的清洗水废弃。接着，在第2冲洗区2B，通过清洗度高(污染度低的)清洗水，对两个面进行正式清洗，最后，通过由最终冲洗区2C未使用的纯水形成的清洗水，对两个面进行最终清洗。由于采用越是往下游侧，清洁度越高的清洗水，故串联地使用清洗水，尽管谋求该使用量的削减，但也可使基板具有较高的清洁度。

只要用于像日本那样的水丰富的国家、地域，即使在按照阶梯方式使用清洗水的上述这样的基板清洗装置中的情况下，仍没有特别的问题。但是，具有因国家、地域，对清洗水的使用量，有较大的限制的情况，在这样的场合，即使在上述方式的基板的清洗装置中，清洗水的使用量也过大，人们寻求可进行进一步节水的基板清洗装置。

关于基板清洗装置中的节水，在专利文献1中公开有下述的基板清洗装置，其中，在化学液处理区和喷淋式水洗区之间，组合有液膜式清洗机构，其呈幕状将清洗水供给到基板表面上；液刀的除液机构，其在液膜式清洗机构的下游侧，使清洗水呈液膜状，并且相对基板运送方向，沿相反方向倾斜而排出，置换残留于基板的两个表面上的清洗液。另外，在专利文献2中，公开有下述的基板清洗装置，其中，组合有第1喷嘴排和第2喷嘴排，在该第1喷嘴排中，沿与基板运送方向相垂直的水平方向并列有多个平型喷雾嘴，各喷雾嘴按照沿周向每次按照相同角度而扭转的方式配置，在该第2喷嘴排中，在第1喷嘴排的下游侧，多个平型喷雾嘴按照来自各喷雾嘴的液膜重叠的方式沿与基板运送方向相垂直的水平方向并列，形成幕状的液膜。

在任意的基板清洗装置中，按照在结束化学液处理的基板的表面上的运送方向的一部分上，在全宽范围内，集中供给清洗水的所谓的桨方式，进行清洗。在基板的表面上的运送方向的一部分上在全宽范围内供给的清洗水呈厚膜状放置于基板上，排到侧方。这样的桨清洗每次一部分地对基板运送方向较窄的部分进行清洗，将化学液置换为清洗水，由此，与喷淋清洗相比较，可大幅度地削减清洗水的使用量。但是，在考虑清洗效果的场合，实际的情况是，其节水量谈不上充分。

在先技术文献

专利文献