[发明专利]透明导电性膜有效
| 申请号： | 201010503538.6 | 申请日： | 2010-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN102034565A | 公开（公告）日： | 2011-04-27 |
| 发明（设计）人： | 加藤祐子;野岛孝之;森田祐诚 | 申请（专利权）人： | 日油株式会社 |
| 主分类号： | H01B5/14 | 分类号： | H01B5/14 |
| 代理公司： | 上海金盛协力知识产权代理有限公司 31242 | 代理人： | 段迎春 |
| 地址： | 日本国东京都涉*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 透明导电性膜具备在聚酯膜的第1主面上依次层积的高折射率层、低折射率层以及锡掺杂氧化铟层(ITO层)。高折射率层由金属氧化物微粒和紫外线固化性粘合剂形成。波长400nm时的高折射率层的折射率为1.63～1.86。高折射率层的膜厚为40～90nm。波长400nm时的低折射率层的折射率为1.33～1.53。低折射率层的膜厚为10～50nm。波长400nm时的ITO层的折射率为1.85～2.35。ITO层的膜厚为5～50nm。 | ||
| 搜索关键词： | 透明 导电性 | ||
【主权项】：
一种透明导电性膜，具备在聚酯膜的第1主面上依次层积的高折射率层、低折射率层以及锡掺杂氧化铟层，其特征在于，所述高折射率层由金属氧化物微粒和紫外线固化性粘合剂形成，在波长400nm时的所述高折射率层的折射率为1.63～1.86，所述高折射率层的膜厚为40～90nm，波长400nm时的所述低折射率层的折射率为1.33～1.53，所述低折射率层的膜厚为10～50nm，波长400nm时的所述锡掺杂氧化铟层的折射率为1.85～2.35，所述锡掺杂氧化铟层的膜厚为5～50nm。
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