[发明专利]连续的定量可控的干粉铺涂装置

摘要

本发明“连续的定量可控的干粉铺涂装置”属于制备固体薄膜及半导体薄膜靶材，或直接制备薄膜的铺涂干粉的设备。沉积大面积薄膜需采用烧结、压制、蒸发、升华等手段制成大面积的靶或源，或直接用粉体作源。浆料易于涂敷成薄层，但难以满足高纯度要求，因此直接将干粉铺涂成粉体层便是不二选择。在大面积上制作厚度均匀且可控的粉体层技术及实施这种技术的装置并不成熟，也未见报道。粉体具有流动性差、不能传递压力，易于阻塞，密度不均、易于成团的特点，要获得厚度均匀的粉体层必须采用特殊的手段。本发明针对上述要求和粉体自身的特点作了一系列特别的设计。本装置可进行连续铺粉过程，可按要求制作出不同尺寸、不同厚度且均匀的连续粉体层。

主权项

一种铺粉设备，其特征是利用步进电机使承接粉体的衬底水平移动，在衬底之上有一个漏斗，漏斗的高度可调，漏斗下部有一对拨料转轴，拨料转轴在步进电机的带动下转动而将粉体按要求拨撒在衬底上，衬底下安装接收散落粉体的回收盘。