[发明专利]提高铜膜抗氧化性能的等离子浸没离子注入方法无效
| 申请号： | 201010275281.3 | 申请日： | 2010-09-07 |
| 公开（公告）号： | CN101921991A | 公开（公告）日： | 2010-12-22 |
| 发明（设计）人： | 蔡珣;安全长;聂璞林 | 申请（专利权）人： | 上海交通大学 |
| 主分类号： | C23C14/48 | 分类号： | C23C14/48;C23C14/35;C23C14/16 |
| 代理公司： | 上海交达专利事务所 31201 | 代理人： | 王锡麟;王桂忠 |
| 地址： | 200240 *** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种材料表面改性技术领域的提高铜膜抗氧化性能的等离子浸没离子注入方法，包括如下步骤：取普通玻璃基片若干，将其先后置于去离子水和有机溶剂中超声清洗，烘干备用；将清洗后的玻璃基片固定在磁控溅射设备样品台上，采用沉积工艺制备铜膜；将沉积所得均匀铜膜取出并放置于等离子浸没离子注入设备上，利用金属棒作为靶源，进行离子注入处理，将所得铜膜置于加热炉氧化。本发明可以明显提高铜膜的抗氧化性能，且不存在改性层和铜膜之间的膜基结合力问题，等离子浸没离子注入技术是一种具有高度环保性的新型材料表面改性技术，且制备铜膜的磁控溅射技术也是一种无公害的膜沉积技术，故本发明具有高度的环保性。 | ||
| 搜索关键词： | 提高 铜膜抗 氧化 性能 等离子 浸没 离子 注入 方法 | ||
【主权项】：
一种提高铜膜抗氧化性能的等离子浸没离子注入方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤一：取普通玻璃基片若干，将其先后置于去离子水和有机溶剂中超声清洗，烘干备用；步骤二：将清洗后的玻璃基片固定在磁控溅射设备样品台上，采用沉积工艺制备铜膜；步骤三：将沉积所得均匀铜膜取出并放置于等离子浸没离子注入设备上，利用金属棒作为靶源，进行离子注入处理，将所得铜膜置于加热炉氧化。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海交通大学，未经上海交通大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201010275281.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种导流型电解槽
- 下一篇：耐腐蚀高强度超厚钢板的生产方法
- 同类专利
- 专利分类
