[发明专利]具有抗干涉条纹结构的辉度增强光学基底无效
| 申请号： | 201010272634.4 | 申请日： | 2010-08-11 |
| 公开（公告）号： | CN101995601A | 公开（公告）日： | 2011-03-30 |
| 发明（设计）人： | 王康华;王凯俊;叶芳君 | 申请（专利权）人： | 友辉光电股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B6/00 | 分类号： | G02B6/00;G02B5/02;G02B5/04;G02F1/13357 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 马高平 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种具有结构化光输出面的光学基底，该输出面包括多行横向布置的蛇形、波状或弯曲的纵向棱柱结构。光输出面的棱柱结构可呈现为包括多行横向弯曲的纵向棱柱、和/或端对端结合以形成整体弯曲纵向棱柱结构的曲段部分。纵向棱柱结构的横向弯曲行布置成横向平行(并排)，限定出平行的峰谷(在各相邻峰谷之间限定出小平面)。在一个实施例中，横向波纹是规则的，具有恒定或可变的波长和/或波幅(或横向变形程度)。横向波纹可大致呈正弦曲线等弯曲轮廓。结构化光输出面还可包括沿各波状棱柱结构的发生变化的峰高、和/或预定的结构不规则部，例如分布在结构化表面中的非小平面平坦部。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 干涉 条纹 结构 增强 光学 基底 | ||
【主权项】：
一种光学基底，包括：基底；位于基底一侧的光输入面；和结构化的光输出面，位于基底另一侧，并包括多行横向布置的纵向棱柱结构，其中，棱柱结构包括横向变形部分。
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