[发明专利]清洗系统及方法有效
| 申请号： | 201010250914.5 | 申请日： | 2010-08-11 |
| 公开（公告）号： | CN102371254A | 公开（公告）日： | 2012-03-14 |
| 发明（设计）人： | 王磊;景玉鹏 | 申请（专利权）人： | 中国科学院微电子研究所 |
| 主分类号： | B08B3/02 | 分类号： | B08B3/02;H01L21/00 |
| 代理公司： | 北京市德权律师事务所 11302 | 代理人： | 王建国 |
| 地址： | 100029 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种清洗系统包括：去离子水储罐、CO2气瓶、用于对CO2加热并使其达到高温状态的控制装置、清洗腔室及用于将含去离子水和高温状态的CO2的混合流体喷射到清洗腔室的喷射装置；所述去离子水储罐的出口及所述CO2气瓶的出口与所述喷射装置的入口连接；所述喷射装置的出口与所述清洗腔室的入口连接。本发明公开了一种清洗方法包括：形成高温状态的CO2；形成含去离子水和所述高温CO2的混合流体；及使用所述混合流体对样片进行清洗处理。根据本发明的清洗系统及方法，可以将无机碳化厚层和底部有机光刻胶以及固化交联的SU-8全部剥离，去胶效率大大提高，无残留物，基底材料的损失最小化。 | ||
| 搜索关键词： | 清洗 系统 方法 | ||
【主权项】：
一种清洗系统，其特征在于，包括：去离子水储罐、CO2气瓶、用于对CO2加热并使其达到高温状态的控制装置、清洗腔室及用于将含去离子水和高温状态的CO2的混合流体喷射到清洗腔室的喷射装置；所述去离子水储罐的出口及所述CO2气瓶的出口与所述喷射装置的入口连接；所述喷射装置的出口与所述清洗腔室的入口连接。
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