[发明专利]成像设备和成像方法无效
申请号: | 201010237313.0 | 申请日: | 2010-07-23 |
公开(公告)号: | CN101964919A | 公开(公告)日: | 2011-02-02 |
发明(设计)人: | 田中康一 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 |
主分类号: | H04N13/00 | 分类号: | H04N13/00;H04N5/232 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 刘光明;穆德骏 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种成像设备和成像方法。本发明提供一种立体成像设备,其能根据焦点对准的对象而电子地调整会聚角。当分别从焦点对准的第一图像数据和第二图像数据检测的特征点和对应点的对的总数超出预定阈值th1时,控制视差直方图生成单元(101)生成视差量的直方图,并且控制代表视差信息确定单元(102)来根据视差量的直方图中的图格确定代表视差量。根据由焦点调整单元(33)确定的搜索方向,代表视差信息确定单元(102)基于图格的频率f是否大于预定阈值th2,确定直方图中的每一图格的有效性。代表视差信息确定单元(102)基于有效图格中的视差量来确定代表视差量。立体显示控制单元(45)基于所确定的代表视差量,确定第一图像数据和第二图像数据的剪辑范围。 | ||
搜索关键词: | 成像 设备 方法 | ||
【主权项】:
一种成像设备,包括:成像单元(1a,1b),所述成像单元(1a,1b)通过使用成像元件对经由基准光学系统和非基准光学系统的每一个而形成的对象图像执行光电转换,并且输出相互不同的多个视点图像;基准聚焦评估区定义单元,所述基准聚焦评估区定义单元定义与来自所述基准光学系统的视点图像中的一个相对应的基准聚焦评估区;对象信息确定单元,所述对象信息确定单元确定与从所述成像单元到所述基准聚焦评估区中的对象的距离是长还是短相关的对象信息;聚焦控制单元,所述聚焦控制单元在改变所述基准光学系统的焦点位置时检测峰值位置,所述峰值位置中的每一个均为在来自所述基准光学系统的视点图像中的由所述基准聚焦评估区定义单元定义的所述基准聚焦评估区中具有局部最大对比度的焦点位置;基于由所述对象信息确定单元确定的对象信息来确定在所述峰值位置中与所述对象相对应的焦点对准位置;并且将所述基准光学系统的焦点位置移动到所确定的焦点对准位置;特征点提取区定义单元,所述特征点提取区定义单元基于所述基准聚焦评估区,定义与来自所述基准光学系统的视点图像相对应的特征点提取区,所述基准光学系统具有移动到所述焦点对准位置的焦点位置;特征点提取单元(82),所述特征点提取单元(82)从由所述特征点提取区定义单元在所述基准光学系统的视点图像中定义的所述特征点提取区中,提取特征点;对应点提取单元(83),所述对应点提取单元(83)从来自所述非基准光学系统的其他视点图像中,提取与由所述特征点提取单元提取的特征点相对应的对应点;视差量计算单元,所述视差量计算单元计算关于每一对由所述特征点提取单元提取的特征点和由所述对应点提取单元提取的对应点的视差量;直方图生成单元,所述直方图生成单元基于由所述视差量计算单元计算的关于每一对特征点和对应点的视差量,生成直方图,所述直方图表示关于每一对的视差量的分布;确定单元,所述确定单元基于由所述对象信息确定单元确定的所述对象信息和由所述直方图生成单元生成的所述直方图中的频率来确定有效阶段,所述有效阶段是具有与所述对象相对应的视差量的阶段;以及代表视差量确定单元,所述代表视差量确定单元基于由所述确定单元确定的有效阶段来确定代表视差量。
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