[发明专利]锑化铟材料表面化学机械抛光液的制备方法有效
| 申请号： | 201010232257.1 | 申请日： | 2010-07-21 |
| 公开（公告）号： | CN102020923A | 公开（公告）日： | 2011-04-20 |
| 发明（设计）人： | 刘玉岭;王娟;李晖 | 申请（专利权）人： | 天津晶岭微电子材料有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 天津市三利专利商标代理有限公司 12107 | 代理人： | 肖莉丽 |
| 地址： | 300130*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种锑化铟材料表面化学机械抛光液的制备方法，旨在提供一种采用负压涡流搅拌的方法制备抛光液，避免硅溶胶的凝胶或溶解，同时，避免有机物、金属离子、大颗粒等有害物质进入抛光液中，提高抛光液的纯度。使用电阻为18MΩ以上的超纯水对透明密闭反应釜及进料管道进行清洗，使清洗后废液的电阻不低于16MΩ，将胺碱加入到已清洗过的透明密闭的反应釜中，对透明密闭反应釜抽真空使透明密闭反应釜内呈负压完全涡流状态，形成完全涡流搅拌；边进行完全涡流搅拌边将活性剂、FA/O螯合剂依次加入到透明密闭反应釜中；边进行完全涡流搅拌边将硅溶胶抽入到透明密闭反应釜中，充分完全涡流搅拌5-15分钟后得到pH值为9-12的抛光液。 | ||
| 搜索关键词： | 锑化铟 材料 表面 化学 机械抛光 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种锑化铟材料表面化学机械抛光液的制备方法，其特征在于，包括下述步骤：(1)使用电阻为18MΩ以上的超纯水对透明密闭反应釜及进料管道进行清洗，使清洗后废液的电阻不低于16MΩ；所述透明密闭反应釜的材料为聚丙烯、聚乙烯、聚甲基丙烯酸甲脂中的任一种；(2)将胺碱通过步骤(1)清洗过的进料管道加入到步骤(1)已清洗过的透明密闭的反应釜中，对透明密闭反应釜抽真空使透明密闭反应釜内呈负压完全涡流状态，形成完全涡流搅拌；(3)边进行完全涡流搅拌边通过步骤(1)清洗后的管道将活性剂、FA/O螯合剂依次加入到透明密闭反应釜中，持续保持完全涡流状态；(4)边进行完全涡流搅拌边将质量百分比浓度为50％、粒径为15‑25nm、莫氏硬度为7的硅溶胶通过步骤(1)清洗后的管道抽入到透明密闭反应釜中，充分完全涡流搅拌5‑15分钟后得到pH值为9‑12的抛光液得到的抛光液按质量百分比的组成为：质量百分比浓度为50％、粒径为15‑25nm、莫氏硬度为7的硅溶胶80‑96.4％，活性剂0.5‑5％，FA/O螯合剂0.1‑5％，胺碱3‑10％。
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