[发明专利]镁铝合金化学机械抛光后表面清洗方法有效

专利信息
申请号: 201010231659.X 申请日: 2010-07-21
公开(公告)号: CN101972753A 公开(公告)日: 2011-02-16
发明(设计)人: 刘玉岭;王如;檀柏梅;徐文忠 申请(专利权)人: 河北工业大学
主分类号: B08B3/08 分类号: B08B3/08
代理公司: 天津市三利专利商标代理有限公司 12107 代理人: 肖莉丽
地址: 300130*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 发明公开了一种镁铝合金化学机械抛光后表面清洗方法,旨在提供一种能够降低镁铝合金材料碱性化学机械抛光的后续加工成本,使用方法简单易行,能够提高晶片表面质量的清洗方法。取电阻为18MΩ以上的超纯水边搅拌边加入非离子表面活性剂和FA/O螯合剂;采用电阻为18MΩ以上的超纯水稀释阻蚀剂;将稀释后的阻蚀剂边搅拌边加入到上述液体中,搅拌均匀后得到水溶性表面清洗液,使用得到的水溶性表面清洗液迅速对碱性化学机械抛光后的镁铝合金材料采用大流量低压力条件下进行抛光清洗;用电阻为18MΩ以上的超纯水在零压力、大流量条件下冲洗。
搜索关键词: 铝合金 化学 机械抛光 表面 清洗 方法
【主权项】:
一种镁铝合金化学机械抛光后表面清洗方法,其特征在于,包括下述步骤:(1)取电阻为18MΩ以上的超纯水边搅拌边加入非离子表面活性剂和FA/O螯合剂;(2)采用电阻为18MΩ以上的超纯水稀释阻蚀剂;(3)将稀释后的阻蚀剂边搅拌边加入到步骤(1)得到的液体中,搅拌均匀后得到水溶性表面清洗液,得到的水溶性表面清洗液中按重量百分比:非离子表面活性剂为1‑5%,FA/O螯合剂为0.1‑5%,阻蚀剂为0.01‑5%,余量为电阻为18MΩ以上的超纯水;(4)使用步骤(3)中得到的水溶性表面清洗液迅速对碱性化学机械抛光后的镁铝合金材料采用1000‑5000ml/min的大流量在0‑0.01个大气压的低压力条件下进行抛光清洗,抛光清洗的时间30s‑3min;(5)用电阻为18MΩ以上的超纯水在零压力、流量为1000‑4000ml/min的大流量条件下对步骤(4)清洗后的镁铝合金材料冲洗30s‑3min。
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