[发明专利]光刻设备无效
| 申请号： | 201010229247.2 | 申请日： | 2010-07-16 |
| 公开（公告）号： | CN102338987A | 公开（公告）日： | 2012-02-01 |
| 发明（设计）人： | 郭勃琳 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;B08B3/02 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 20120*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种光刻设备，包括：反应腔；位于反应腔内，用于在其上形成光掩膜层的卡盘；设置在反应腔内用于固定卡盘的固定盘，连接固定盘和卡盘并用于支撑卡盘的支撑柱，还包括：连接至固定盘，具有多个喷嘴的清洗装置。所述的光刻设备在反应腔内设置了清洗装置，在反应腔内产生污染物粒子之后，可以通过所述清洗装置清洗所述反应腔，避免了采用人工清洗造成的人力浪费，并且避免对人体产生伤害。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 | ||
【主权项】：
一种光刻设备，包括：反应腔；位于反应腔内，用于在其上形成光掩膜层的卡盘；设置在反应腔内用于固定卡盘的固定盘，连接固定盘和卡盘并用于支撑卡盘的支撑柱，其特征在于，还包括：连接至固定盘，具有多个喷嘴的清洗装置。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中芯国际集成电路制造(上海)有限公司，未经中芯国际集成电路制造(上海)有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201010229247.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
