[发明专利]打孔系统及方法有效
申请号: | 201010226286.7 | 申请日: | 2010-07-14 |
公开(公告)号: | CN102329078A | 公开(公告)日: | 2012-01-25 |
发明(设计)人: | 王磊;景玉鹏 | 申请(专利权)人: | 中国科学院微电子研究所 |
主分类号: | C03B33/04 | 分类号: | C03B33/04 |
代理公司: | 北京市德权律师事务所 11302 | 代理人: | 王建国 |
地址: | 100029 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种打孔系统包括:CO2气瓶、HF气瓶、用于形成CO2和HF的混合气体且使所述混合气体中的CO2达到超临界态的控制装置及用于对玻璃片打孔的反应腔室;所述CO2气瓶的出口及所述HF气瓶的出口与所述控制装置的入口连接,所述控制装置的出口与所述反应腔室的入口连接。本发明还公开了一种打孔方法包括:形成HF和含超临界态CO2的混合气体;及使用所述混合气体对玻璃片进行打孔处理。根据本发明的打孔系统及方法,可对玻璃片进行任意角度刻蚀,可刻蚀深宽比较大的3D图形,且孔径精度和光洁度大大提高,而且不会造成微裂纹。 | ||
搜索关键词: | 打孔 系统 方法 | ||
【主权项】:
一种打孔系统,其特征在于,包括:CO2气瓶、HF气瓶、用于形成CO2和HF的混合气体且使所述混合气体中的CO2达到超临界态的控制装置及用于对玻璃片打孔的反应腔室;所述CO2气瓶的出口及所述HF气瓶的出口与所述控制装置的入口连接,所述控制装置的出口与所述反应腔室的入口连接。
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