[发明专利]打孔系统及方法有效

专利信息
申请号: 201010226286.7 申请日: 2010-07-14
公开(公告)号: CN102329078A 公开(公告)日: 2012-01-25
发明(设计)人: 王磊;景玉鹏 申请(专利权)人: 中国科学院微电子研究所
主分类号: C03B33/04 分类号: C03B33/04
代理公司: 北京市德权律师事务所 11302 代理人: 王建国
地址: 100029 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种打孔系统包括:CO2气瓶、HF气瓶、用于形成CO2和HF的混合气体且使所述混合气体中的CO2达到超临界态的控制装置及用于对玻璃片打孔的反应腔室;所述CO2气瓶的出口及所述HF气瓶的出口与所述控制装置的入口连接,所述控制装置的出口与所述反应腔室的入口连接。本发明还公开了一种打孔方法包括:形成HF和含超临界态CO2的混合气体;及使用所述混合气体对玻璃片进行打孔处理。根据本发明的打孔系统及方法,可对玻璃片进行任意角度刻蚀,可刻蚀深宽比较大的3D图形,且孔径精度和光洁度大大提高,而且不会造成微裂纹。
搜索关键词: 打孔 系统 方法
【主权项】:
一种打孔系统,其特征在于,包括:CO2气瓶、HF气瓶、用于形成CO2和HF的混合气体且使所述混合气体中的CO2达到超临界态的控制装置及用于对玻璃片打孔的反应腔室;所述CO2气瓶的出口及所述HF气瓶的出口与所述控制装置的入口连接,所述控制装置的出口与所述反应腔室的入口连接。
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