[发明专利]传感器、台以及光刻设备无效
| 申请号： | 201010202596.5 | 申请日： | 2010-06-11 |
| 公开（公告）号： | CN101957561A | 公开（公告）日： | 2011-01-26 |
| 发明（设计）人： | H·W·M·范布尔;J·T·布洛克惠斯基;V·普洛斯因特索夫;S·范德克拉夫;N·V·德兹沃姆基娜 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王波波 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明公开了一种传感器、一种台和一种光刻设备。用于浸没系统的传感器包括：感测装置、透明层以及不透明的图案形成层。感测装置配置成感测辐射束的特性。透明层配置成允许辐射束通过其中。透明层覆盖所述感测装置。不透明的图案形成层配置成将图案赋予所述辐射束。开口位于所述图案形成层中，位于所述开口内的是填充材料。填充材料对辐射束是透明的并且具有与所述透明层的折射率相近的折射率。 | ||
| 搜索关键词： | 传感器 以及 光刻 设备 | ||
【主权项】：
一种用于浸没系统的传感器，所述传感器包括：感测装置，配置成感测辐射束的特性；透明层，配置成允许辐射束通过其中，所述透明层覆盖所述感测装置；和不透明的图案形成层，其位于透明层和所述感测装置之间，所述图案形成层配置成将图案赋予给所述辐射束，其中开口位于所述图案形成层中并且填充材料位于所述开口内，所述填充材料对辐射束是透明的并且具有与所述透明层的折射率相近的折射率。
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