[发明专利]存储装置和存储器有效
申请号: | 201010201355.9 | 申请日: | 2010-06-09 |
公开(公告)号: | CN101923889A | 公开(公告)日: | 2010-12-22 |
发明(设计)人: | 山根一阳;细见政功;鹿野博司;大森广之;五十岚;山元哲也;别所和宏;肥后丰;大石雄纪;楠真一郎 | 申请(专利权)人: | 索尼公司 |
主分类号: | G11C11/02 | 分类号: | G11C11/02;G11C11/06 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人: | 吴孟秋;梁韬 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了存储装置和存储器。存储装置包括:存储层,基于磁性材料的磁化状态来保持信息;第一中间层和第二中间层,被设置为夹置存储层并且均由绝缘体形成;第一固定磁性层,被设置在第一中间层的与存储层相对的侧上;第二固定磁性层,被设置在第二中间层的与存储层相对的侧上;以及非磁性导体层,被设置在第一中间层或者第二中间层和存储层之间,存储装置被配置为,在堆叠方向上向其注入自旋极化电子以改变存储层的磁化方向,从而将信息存储在存储层中。 | ||
搜索关键词: | 存储 装置 存储器 | ||
【主权项】:
一种存储装置,包括:存储层,基于磁性材料的磁化状态保持信息,第一中间层和第二中间层,被设置为夹置所述存储层,并且均由绝缘体形成,第一固定磁性层,被设置在所述第一中间层的与所述存储层相对的侧上,第二固定磁性层,被设置在所述第二中间层的与所述存储层相对的侧上,以及非磁性导体层,被设置在所述第一中间层或所述第二中间层与所述存储层之间,所述存储装置被配置为在堆叠方向被注入自旋极化电子,以改变所述存储层的磁化方向,从而将信息存储在所述存储层中。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于索尼公司,未经索尼公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201010201355.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:食品和饮料中胡萝卜成分快速检测试剂盒的制备和检测方法
- 下一篇:压缩机