[发明专利]基板位置检测方法及装置有效
| 申请号： | 201010185073.4 | 申请日： | 2010-05-20 |
| 公开（公告）号： | CN102253505A | 公开（公告）日： | 2011-11-23 |
| 发明（设计）人： | 吴健 | 申请（专利权）人： | 北京京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/13 | 分类号： | G02F1/13 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 100176 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明实施例公开了一种基板位置检测方法及装置，所述基板位置检测装置包括：设置于反应腔内的支撑设备，所述支撑设备上架设有至少一套底部设有反光板的摆动设备，所述每套摆动设备随基板位置变化而摆动，所述反应腔外对应于所述反光板的位置设置有光收发设备，所述光收发设备用于向所述反光板发射光线，并根据由所述反光板反射回来的光线的强度判定基板是否到达检测位置；其中，所述光收发设备与所述反光板之间的反应腔壁为透光性材质。本发明适用于对反应腔内的基板位置进行检测。 | ||
| 搜索关键词： | 位置 检测 方法 装置 | ||
【主权项】：
一种基板位置检测装置，其特征在于，包括：设置于反应腔内的支撑设备，所述支撑设备上架设有至少一个底部设有反光板的摆动设备，所述每个摆动设备随基板位置变化而摆动，所述反应腔外对应于所述反光板的位置设置有光收发设备，所述光收发设备用于向所述反光板发射光线，并根据由所述反光板反射回来的光线的强度判定基板是否到达检测位置；其中，所述光收发设备与所述反光板之间的反应腔壁为透光性材质。
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