[发明专利]一种具备杂质深能级的晶体硅光伏电池的制备方法无效
申请号: | 201010183447.9 | 申请日: | 2010-05-19 |
公开(公告)号: | CN101872805A | 公开(公告)日: | 2010-10-27 |
发明(设计)人: | 韩培德 | 申请(专利权)人: | 中国科学院半导体研究所 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 周国城 |
地址: | 100083 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种具备杂质深能级的晶体硅光伏电池的制备方法,包括:步骤1:在弱n型Si衬底表面制绒,形成绒面;步骤2:在该绒面上制备具有杂质深能级的n型Si层;步骤3:在具有杂质深能级的n型Si层上覆盖p型半导体薄膜,与n型Si层形成pn结;步骤4:对形成pn结的掺杂Si片进行高温退火处理,以激活杂质;步骤5:在p型半导体薄膜上制备p电极,在n型Si层上制备第一n电极,在弱n型Si衬底下表面制备第二n电极。利用本发明,以实现Si对红外光的更多吸收;以实现对电池内建电场的调节,使其覆盖具有杂质深能级的n型Si层,从而分离该区域的光生电子—空穴对;以实现在杂质深能级上光生载流子的输出问题。从而提高了电池整体的光伏效率。 | ||
搜索关键词: | 一种 具备 杂质 能级 晶体 硅光伏 电池 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种具备杂质深能级的晶体硅光伏电池的制备方法,其特征在于,该方法包括:步骤1:在弱n型Si衬底表面制绒,形成绒面;步骤2:在该绒面上制备具有杂质深能级的n型Si层;步骤3:在具有杂质深能级的n型Si层上覆盖p型半导体薄膜,与n型Si层形成pn结;步骤4:对形成pn结的掺杂Si片进行高温退火处理,以激活杂质;步骤5:在p型半导体薄膜上制备p电极,在n型Si层上制备第一n电极,在弱n型Si衬底上下表面制备第二n电极。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
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