[发明专利]测量重掺硅中氧含量的装置及方法无效
申请号: | 201010182414.2 | 申请日: | 2010-05-25 |
公开(公告)号: | CN101832930A | 公开(公告)日: | 2010-09-15 |
发明(设计)人: | 季振国;席俊华;毛启楠 | 申请(专利权)人: | 杭州电子科技大学 |
主分类号: | G01N21/63 | 分类号: | G01N21/63 |
代理公司: | 杭州求是专利事务所有限公司 33200 | 代理人: | 周烽 |
地址: | 310018 浙江省*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明公开了一种测量重掺硅中氧含量的装置及方法,该装置主要由脉冲激光器、聚焦透镜、样品台、出射光透镜组合、光谱仪、电脑、机械泵、真空阀门、分子泵、真空室、样品操纵杆组成;具有灵敏度高、测量时间短、样品无需特殊处理等技术特点。 | ||
搜索关键词: | 测量 重掺硅中氧 含量 装置 方法 | ||
【主权项】:
一种利用激光击穿光谱测量重掺硅中氧含量的装置,其特征在于,包括:脉冲激光器、聚焦透镜、样品台、出射光透镜组合、光谱仪、电脑、机械泵、真空阀门、分子泵、真空室、样品操纵杆。其中,所述真空室上置有激光入射窗口、发射光出射窗口和备用窗口,样品台通过样品操纵杆置于真空室内,聚焦透镜和脉冲激光器依次排列在激光入射窗口前,出射光透镜组合位于发射光出射窗口前,出射光透镜组合通过光纤与光谱仪相连,光谱仪通过USB连接线与电脑相连,分子泵与真空室相连,机械泵通过真空阀门与分子泵相连。
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