[发明专利]具高冲击性之改性纳米蒙脱土PC/ABS共聚物及其制备方法、成型制件的制备方法有效
| 申请号： | 201010154502.1 | 申请日： | 2010-04-20 |
| 公开（公告）号： | CN102234413A | 公开（公告）日： | 2011-11-09 |
| 发明（设计）人： | 蔡芳昌;杨建忠;蒋涛;马宁;马国文;文胜;郑根稳 | 申请（专利权）人： | 蔡芳昌;杨建忠 |
| 主分类号： | C08L69/00 | 分类号： | C08L69/00;C08L55/02;C09K9/02;C08K3/34;C08K3/26 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 430062 湖北省武汉*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种包含改性纳米蒙脱土(MMT)、聚碳酸酯(PC)和丙烯腈/丁二烯/苯乙烯共聚物(ABS)的组合物、利用此组合物制造的成型制件、以及制造此成型制件的方法。利用此组合物制造的成型制件有容器、薄膜、平板或者管状等形状的成型制件，该成型制件具有效提高分子复合材料之冲击性能和疲劳性能、保持原有高分子基材之主要特性、制程简便、低环境污染，且应用范围广泛。 | ||
| 搜索关键词： | 冲击 改性 纳米 蒙脱土 pc abs 共聚物 及其 制备 方法 成型 制件 | ||
【主权项】：
一种高冲击性能组合物，包含改性纳米蒙脱土、聚碳酸酯和丙烯腈/丁二烯/苯乙烯共聚物。
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