[发明专利]含有PMMA的中空纤维膜及其制法在审
| 申请号： | 201010153169.2 | 申请日： | 2010-04-23 |
| 公开（公告）号： | CN101879417A | 公开（公告）日： | 2010-11-10 |
| 发明（设计）人： | 洪耀良;奚韶锋;陈翠仙 | 申请（专利权）人： | 苏州膜华材料科技有限公司 |
| 主分类号： | B01D71/34 | 分类号： | B01D71/34;B01D69/08;B01D67/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 215200 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种聚偏氟乙烯多孔中空纤维膜及其制备方法，其制膜的配方及其含量以质量百分比计：第一聚合物P1：聚偏氟乙烯(PVDF)25～40％；第二聚合物P2：聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)0～5％；第一稀释剂D1：二甘醇乙酸酯36～50％；第二稀释剂D2：乙二醇丁醚17～24％；采用本发明制备的PVDF中空纤维超、微滤膜，具有优良的化学稳定性，抗污染、强度高的中空纤维膜，能为MBR工艺提供高性能的膜产品。 | ||
| 搜索关键词： | 含有 pmma 中空 纤维 及其 制法 | ||
【主权项】：
一种聚偏氟乙烯多孔中空纤维膜，其制膜的配方及其含量以质量百分比计：第一聚合物P1：聚偏氟乙烯(PVDF) 25～40％第二聚合物P2：聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA) 0～5％第一稀释剂D1：二甘醇乙酸酯 36～50％第二稀释剂D2：乙二醇丁醚 17～24％。
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