[发明专利]用于修复半色调掩模的方法和系统无效
| 申请号： | 201010153020.4 | 申请日： | 2010-04-20 |
| 公开（公告）号： | CN102236248A | 公开（公告）日： | 2011-11-09 |
| 发明（设计）人： | 郑钟甲;金一镐 | 申请（专利权）人： | 株式会社COWINDST |
| 主分类号： | G03F1/14 | 分类号： | G03F1/14;G03F1/00 |
| 代理公司： | 北京北翔知识产权代理有限公司 11285 | 代理人： | 杨勇;郑建晖 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本公开内容涉及一种用于修复半色调掩模的方法和系统，其可通过执行一个修复过程来确保修复部分均匀的透过率，且即便是在表层膜形成之后，也能提供除去缺陷这一功能，所述修复过程包括：使用激光束从半色调掩模中除去缺陷；在缺陷区域上有效地形成阻挡膜；调节阻挡膜的厚度；以及实时地调节透过率。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 修复 色调 方法 系统 | ||
【主权项】：
一种半色调掩模修复的方法，其通过向原材料照射激光束而在缺陷部分上沉积该原材料来修复半色调掩模上的半色调部的缺陷部分。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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