[发明专利]稀土掺杂硼酸镥辐射探测材料及其制备和应用无效

专利信息
申请号: 201010152375.1 申请日: 2010-04-20
公开(公告)号: CN102234508A 公开(公告)日: 2011-11-09
发明(设计)人: 丁栋舟;吴云涛;任国浩;潘尚可 申请(专利权)人: 中国科学院上海硅酸盐研究所
主分类号: C09K11/78 分类号: C09K11/78
代理公司: 上海光华专利事务所 31219 代理人: 许亦琳;余明伟
地址: 200050 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明属于发光材料领域,具体涉及一种稀土掺杂硼酸镥辐射探测材料及其制备和应用。本发明的探测材料的化学式为:(Lu1-x-yMxNy)BO3,其中,M选自以下掺杂离子中的一种:Gd3+,Y3+和La3+;N选自以下激活剂离子中的一种:Ce3+,Pr3+和Yb3+,且0.005≤x≤0.5,0.001≤y≤0.1。本发明的稀土掺杂硼酸镥辐射探测材料,均可以粉体、块体或薄膜的形式应用于核医学成像(正电子发射层析摄影术PET)技术领域、X射线成像(如X射线计算机断层扫描CT)技术领域和安全检测技术领域等。
搜索关键词: 稀土 掺杂 硼酸 辐射 探测 材料 及其 制备 应用
【主权项】:
一种稀土掺杂硼酸镥辐射探测材料,该探测材料的化学式为:(Lu1‑x‑yMxNy)BO3,其中,M选自以下掺杂离子中的一种:Gd3+,Y3+和La3+;N选自以下激活剂离子中的一种:Ce3+,Pr3+和Yb3+,且其中x表示掺杂离子M的掺杂浓度,y表示激活剂离子N的掺杂浓度;x和y均表示摩尔比例,且满足0.005≤x≤0.5,0.001≤y≤0.1。
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