[发明专利]电解退除碳化铬膜层的退镀液及方法无效
| 申请号： | 201010151258.3 | 申请日： | 2010-04-20 |
| 公开（公告）号： | CN102234833A | 公开（公告）日： | 2011-11-09 |
| 发明（设计）人： | 黄巍;司国春;宫红丽 | 申请（专利权）人： | 深圳富泰宏精密工业有限公司 |
| 主分类号： | C25F5/00 | 分类号： | C25F5/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518109 广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供一种碳化铬膜层的退镀液，该退镀液为含有碱、促进剂和辅助剂的水溶液，其中所述碱为可溶性碱金属氢氧化物，碱的浓度为20～200g/L；该促进剂为与铬离子有络合作用的络合剂，该促进剂的浓度为20～150g/L；该辅助剂为可溶性聚磷酸盐类化合物，辅助剂的浓度为0.5～10g/L。本发明还提供一种使用上述退镀液电解退除碳化铬膜层的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 电解 碳化 铬膜层 退镀液 方法 | ||
【主权项】：
一种碳化铬膜层的退镀液，其特征在于：该退镀液为含有碱、促进剂和辅助剂的水溶液，其中所述碱为可溶性碱金属氢氧化物，碱的浓度为20～200g/L；该促进剂为与铬离子有络合作用的络合剂，该促进剂的浓度为20～150g/L；该辅助剂为可溶性聚磷酸盐类化合物，辅助剂的浓度为0.5～10g/L。
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