[发明专利]一种超临界水射流清洗设备有效
| 申请号： | 201010145225.8 | 申请日： | 2010-04-09 |
| 公开（公告）号： | CN102211096A | 公开（公告）日： | 2011-10-12 |
| 发明（设计）人： | 高超群;景玉鹏 | 申请（专利权）人： | 中国科学院微电子研究所 |
| 主分类号： | B08B3/08 | 分类号： | B08B3/08 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 周国城 |
| 地址： | 100029 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种超临界水射流清洗设备，用于硅片无损清洗。该设备包括超临界水射流生成装置、清洗室和清洗产物回收处理装置。本发明中超临界水以射流形式到达硅片，并在硅片表面形成超临界水恒温恒压微环境，利用超临界水的物理及化学性质，对硅片表面实施无损清洗。利用本发明，可对硅片表面的微细结构进行有效清洗，同时避免高压清洗腔的使用。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 临界 水射流 清洗 设备 | ||
【主权项】：
一种超临界水射流清洗设备，其特征在于，该设备包括超临界水射流生成装置(1)、清洗室(2)和清洗产物回收处理装置(3)，其中，超临界水射流生成装置(1)中的超临界水以射流形式到达清洗室(2)中的硅片，并在硅片表面形成超临界水恒温恒压微环境，利用超临界水的物理及化学性质，对硅片表面实施无损清洗，自清洗室排出的液体由清洗产物回收处理装置(3)收集，并对该液体进行除杂及净化处理。
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