[发明专利]偏光膜的制造方法有效
| 申请号： | 201010141470.1 | 申请日： | 2010-03-26 |
| 公开（公告）号： | CN101852879A | 公开（公告）日： | 2010-10-06 |
| 发明（设计）人： | 纲谷圭二;难波明生 | 申请（专利权）人： | 住友化学株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30;G02B1/10 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 赵曦;金世煜 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明为一种偏光膜的制造方法，对聚乙烯醇系膜依次进行膨润处理、染色处理、硼酸处理以及洗净处理，在这些处理前和/或处理中进行单轴拉伸，其中，将洗净处理前的膜中的硼化合物含量设为Y、将洗净处理后的膜中的硼化合物含量设为X时，使一次洗净处理前后的膜中的硼化合物含量的残留率为0.7～0.98，或者，将洗净处理前的膜宽设为A、将洗净处理后的膜宽设为B时，使一次洗净处理前后的A/B为0.97～1.03。根据本发明能够提供具有无颜色偏差、无异物缺陷、无打痕等良好外观的偏光膜的制造方法。 | ||
| 搜索关键词： | 偏光 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种偏光膜的制造方法，对聚乙烯醇系膜依次进行膨润处理、染色处理、硼酸处理以及洗净处理，在这些处理前和/或处理中进行单轴拉伸，其中，将洗净处理前的膜中的硼化合物含量设为Y、将洗净处理后的膜中的硼化合物含量设为X时，使一次洗净处理前后的膜中的硼化合物含量的残留率X/Y为0.7～0.98。
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