[发明专利]偏光膜的制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种外观良好的偏光膜的制造方法。

背景技术

一直以来，采用使二色性色素吸附到聚乙烯醇系膜上并发生取向而得到的膜作为偏光膜。也就是说，众所周知有将碘作为二色性色素的碘系偏光膜、将二色性染料作为二色性色素的染料系偏光膜等。通常，这些偏光膜在其至少一面、优选两面上通过由聚乙烯醇系树脂的水溶液等构成的胶粘剂贴合三乙酰纤维素等保护膜，制成偏光板。

作为偏光膜的制造方法，众所周知有如下的方法：使用轧辊、导向辊，用所述二色性色素对聚乙烯醇系膜进行染色并将其延伸，随后为了使碘固着在膜上对聚乙烯醇系膜进行硼酸处理，进行水洗等洗净处理，然后干燥。

但是，在上述制造方法中，在所述洗净处理中存在以下降低外观的问题：在膜上发生起皱、或因硼酸处理引起的硼酸化合物在膜表面析出而发生异物缺陷、在所得的偏光膜上发生颜色偏差、异物缺陷、打痕等。

例如，在JP-3979688-B2中记载有，作为光学性能、尺寸稳定性良好的偏光膜的制造方法，膜中的硼原子含量为规定值。根据该文献的记载，利用水洗处理能够调整偏光膜中的硼原子含量。

但是，在JP-3979688-B2中没有记载洗净处理前后的膜中的硼化合物的具体含量，现状是即使使用JP-3979688-B2中记载的方法，也未必能够充分抑制起皱、异物缺陷的发生。

另外，在P2003-240947-A、JPH08-327823-A中记载有，作为偏光度高的偏光器的制造方法，硼酸处理前后的膜宽为规定值。而且，在JPH08-327823-A中记载有，作为耐久性良好的偏光膜的制造方法，在利用硼化合物的处理中进行单轴拉伸，该拉伸前后的膜宽为规定值。

但是，在P2003-240947-A，JPH08-327823-A中对于洗净处理前后的膜宽都没有任何具体记载，现状是即使使用P2003-240947-A，JPH08-327823-A中记载的方法，也未必能充分抑制起皱、异物缺陷的发生，而期望开发外观更加良好的偏光膜的制造方法。

发明内容

本发明的课题为提供具有良好外观的偏光膜的制造方法。

为了解决上述问题，本发明的发明者进行了锐意的研究，结果找到了如下构成的解决方法，并完成了本发明。

(1)一种偏光膜的制造方法，对聚乙烯醇系膜依次进行膨润处理、染色处理、硼酸处理以及洗净处理，在这些处理前和/或处理中进行单轴拉伸，其中，将洗净处理前的膜中的硼化合物含量设为Y、将洗净处理后的膜中的硼化合物含量设为X时，使一次洗净处理前后的膜中的硼化合物含量的残留率(X/Y)为0.7～0.98。

(2)根据(1)所述的方法，其中，至少进行2次上述洗净处理。

(3)根据(2)所述的方法，其中，将最初的洗净处理前的膜中的硼化合物含量设为Yp、将最后的洗净处理后的膜中的硼化合物含量设为Xp时，使全洗净处理前后的膜中的硼化合物含量的残留率(Xp/Yp)为0.7～0.98。

(4)一种偏光膜的制造方法，对聚乙烯醇系膜依次进行膨润处理、染色处理、硼酸处理以及洗净处理，在这些处理前和/或处理中进行单轴拉伸，其中，将洗净处理前的膜宽设为A、将洗净处理后的膜宽设为B时，使一次洗净处理前后的A/B为0.97～1.03。

(5)根据(4)所述的方法，其中，至少进行2次洗净处理。

(6)根据(5)所述的方法，其中，将最初的洗净处理前的膜宽设为Ap、将处理后的的膜宽设为Bp时，使全洗净处理前后的Ap/Bp为0.97～1.03。

(7)根据(4)或(5)所述的方法，其中，将洗净处理前的膜中的硼化合物含量设为Y、将洗净处理后的膜中的硼化合物含量设为X时，使一次洗净处理前后的膜中的硼化合物含量的残留率(X/Y)为0.7～0.98。

(8)根据(7)所述的方法，其中，至少进行2次所述洗净处理，将最初的洗净处理前的膜中的硼化合物含量设为Yp、将最后的洗净处理后的膜中的硼化合物含量设为Xp时，使全洗净处理前后的膜中的硼化合物含量的残留率(Xp/Yp)为0.7～0.98。

(9)根据(1)～(8)中任一项所述的方法，其中，洗净处理中的洗净温度为30℃以下。

(10)一种偏光板的制造方法，在用(1)～(9)中任一项所述的方法得到的偏光膜的至少单面上贴合保护膜。

本发明有如下效果：由于在洗净处理中可以抑制在膜上发生起皱、异物缺陷，所以能够得到具有无颜色偏差、无异物缺陷、无打痕等外观良好的偏光膜。

具体实施方式

<偏光膜的制造方法>