[发明专利]光照射设备和控制方法无效
申请号: | 201010138376.0 | 申请日: | 2010-03-22 |
公开(公告)号: | CN101916571A | 公开(公告)日: | 2010-12-15 |
发明(设计)人: | 山川明郎;冈本好喜;田中健二;德山一龙;高崎浩司 | 申请(专利权)人: | 索尼公司 |
主分类号: | G11B7/125 | 分类号: | G11B7/125;G11B7/135;G03H1/12 |
代理公司: | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 | 代理人: | 王安武;南霆 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明涉及光照射设备和控制方法。该光照射设备包括:聚焦伺服控制单元,其包括光源、空间光调制单元以及光照射单元,所述聚焦伺服控制单元用于聚焦伺服控制,使得经由所述物镜的光的理想聚焦位置被设定使得理想聚焦位置和所述全息图记录介质表面之间的距离小于从所述表面到所述记录层的下层侧面的距离,并且经由所述物镜的光的聚焦位置恒定地处于理想聚焦位置;物镜/中继镜距离调整单元,用于调整所述物镜和靠近物镜的中继镜之间的距离;光接收单元,用于接收记号光;以及恒定距离控制单元,用于基于记号光的理想位置和记号光的实际光接收位置之间的误差,控制物镜/中继镜距离调整单元。 | ||
搜索关键词: | 照射 设备 控制 方法 | ||
【主权项】:
一种光照射设备,包括:聚焦伺服控制单元,其包括:光源,其配置来将光照射在全息图记录介质上,所述全息图记录介质具有记录层,其中,信息利用信号光和参考光之间的干涉图案记录在所述记录层,空间光调制单元,其配置来对来自所述光源的光进行空间光调制,以执行所述信号光和/或所述参考光的生成,以及在远离来自所述光源的光的在输入表面内的光轴的位置处执行记号光的生成,以及光照射单元,其配置来经由中继镜系统和物镜将由所述空间光调制单元进行了空间光调制的光照射在所述全息图记录介质上,所述聚焦伺服控制单元被配置来执行聚焦伺服控制,使得经由所述物镜被照射的光的理想聚焦位置被设定为满足所述理想聚焦位置和所述全息图记录介质表面之间的距离小于从所述表面到所述记录层的下层侧面的距离这一条件,并且经由所述物镜被照射的光的聚焦位置恒定地处于所述理想聚焦位置;物镜/中继镜距离调整单元,其配置来调整所述物镜和构成所述中继器系统的多个中继镜中更靠近所述物镜布置的中继镜之间的在光轴上的距离;光接收单元,其配置来经由所述全息图记录介质接收所述记号光;以及恒定距离控制单元,其配置来基于所述记号光的理想光接收位置和所述光接收单元的所述记号光的实际光接收位置之间的误差,控制所述物镜/中继镜距离调整单元。
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