[发明专利]光照射设备和控制方法

说明书

技术领域

本发明具体地涉及将光照射在全息图记录介质上的光照射设备、包括用于调节物镜和中继镜(relay lens)之间的距离的机构的光照射设备并且还涉及用于控制物镜和中继镜之间的距离为常数的控制方法。

背景技术

例如，如日本未审查专利申请公布No.2007-79438所公开的，利用全息图格式来执行数据的记录的全息图记录/再现方法已经被投入实际使用。利用该全息图记录/再现方法，在记录时，生成信号光和参考光，其中，根据要被记录的数据的空间光强度调制(强度调制)被施加到信号光，预定的光强度模式被施加到参考光，并且信号光和参考光被照射在全息图记录介质上，由此在记录介质上形成全息图，以执行数据记录。

并且，在再现时，参考光被照射在记录介质上。由此，与记录时的相同(具有与记录时的相同的强度模式)的参考光被照射在记录时根据信号光和参考光的照射所形成的全息图上，由此获得与记录信号光分量对应的衍射光。就是说，获得与如此记录的数据相对应的再现图像(再现光)。如此获得的在再现光例如通过图像传感器，诸如CCD(电荷耦合器件)传感器、CMOS(互补金属氧化物半导体)传感器等检测，由此再现记录信息。

并且，作为这样的全息图记录/再现方法，已经使用了所谓的同轴方法，其中，参考光和信号光被置于同一光轴上，并且经由相同的物镜照射在全息图记录介质上。

在此，对于全息图记录/再现方法，信号光由零数据和按作为光强度模式施加的光的开/光模式二维地排列的数据构成。就是说，信号光承载记录数据的信息的多个位值。利用该全息图记录/再现方法，可以被排列在信号光中的数据的多个位值的单位被认为是记录/再现的最小单位。利用信号光和参考光之间的一次干涉被记录的全息图被称为“全息图页”，其中，如上所述的多个数据位被包括在该“全息图页”中。

利用全息图记录/再现系统，以上述全息图页为单位，数据被顺序地记录。目前，对于利用上述具体的同轴方法的系统，可以想到一种结构，其在旋转驱动盘状记录介质诸如光盘系统(诸如根据相关技术的CD(紧凑盘)或DVD(数字多功能盘)等)的同时，在这样的全息图页为单位执行数据记录。

在此情况下，相对于盘状全息图记录介质以螺旋或同心的方式预先形成轨道(track)，并且在对轨道进行循迹(tracing)的同时，顺序地执行根据信号光/参考光的照射的全息图的形成，由此沿轨道形成全息图页。

在利用在沿着轨道的位置处由此来形成全息图页的技术的情况下，必须执行记录/再现位置的控制，诸如用于将束斑在轨道上循迹的循轨伺服，或者对预定地址的访问控制等等。

目前，还已经想到在执行这样的记录/再现位置的控制时单独地照射专用激光束。就是说，这是单独地照射用于记录/再现全息图的激光束(用于照射信号光/参考光的激光束；用于记录/再现的激光束)和用于控制全息图的记录/再现位置的激光束(用于位置控制的激光束)的技术。

为了应付这样的单独照射用于位置控制的激光束的技术，全息图记录介质被构造成具有例如诸如图22所示的横截面构造。

对于图22所示的全息图记录介质HM，单独地形成在其中执行全息图记录的记录层L1和处于基材L6上的具有不平坦的横截面构造的位置控制信息记录层，其中，在位置控制信息记录层中记录用于位置控制的地址信息等。

具体地，对于全息图记录介质HM，形成有覆盖层L1、记录层L2、反射膜L3、中间层L4、反射膜L5和基材L6。设置形成在记录层L2的下层的反射膜L3，其中，在再现时，根据用于记录/再现的激光束的参考光被照射在该反射膜L3上，并且当获得了与记录在记录层L2上的全息图相对应的再现图像时，将其作为反射光返回到设备侧。

并且，对于基材L6，以螺旋或同心的方式形成用于引导记录层L2上的全息图的记录/再现位置的轨道。例如，通过执行由凹点行等实现的诸如地址信息的信息记录，来形成轨道。

形成在基材L6的上层上的反射膜L5被设置来获取关于记录在基材L6上的信息的反射光。注意，中间层L4被设置为粘接材料，例如树脂或类似物。

在此，为了针对具有诸如如上所述的横截面构造的全息图记录介质HM执行基于用于位置控制的激光束的反射光的适当的位置控制，用于位置控制的激光束到达远至不均匀的横截面形状被提供于其的反射膜L5。就是说，从该方面来看，用于位置控制的激光束必须透过形成在较之反射膜L5更上层上的反射膜L3。

另一方面，为了将再现的对应于记录在记录层L2上的全息图的图像作为反射光返回到设备侧，反射膜L3必须反射用于记录/再现的激光束。