[发明专利]基底介质配准和纠偏装置、方法和系统有效
申请号: | 201010128193.0 | 申请日: | 2010-02-11 |
公开(公告)号: | CN101823639A | 公开(公告)日: | 2010-09-08 |
发明(设计)人: | 约瑟夫·J·费拉拉;约瑟夫·M·费拉拉 | 申请(专利权)人: | 施乐公司 |
主分类号: | B65H7/06 | 分类号: | B65H7/06;B65H23/038;B65H26/00 |
代理公司: | 上海华晖信康知识产权代理事务所(普通合伙) 31244 | 代理人: | 樊英如 |
地址: | 美国康*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 根据此处描述的方面,公开一种用于在印刷系统中纠偏基底介质的装置。该装置包括至少一个传感器,用于测量被传送的该基底介质相对于处理方向的偏斜。该装置还包括钳口组件,用于在该处理方向移动该基底介质。该钳口组件包括用于啮合该基底介质的主动辊和空转辊。该主动辊可旋转地支撑在轴中心线上,其中该轴中心线被基本上在其一端可枢转地支撑以对准该轴中心线与测量的基底介质偏斜。该轴中心线围绕垂直于该轴中心线的枢轴中心线枢转。 | ||
搜索关键词: | 基底 介质 纠偏 装置 方法 系统 | ||
【主权项】:
一种用于在印刷系统中纠偏基底介质的装置,包含:至少一个传感器,用于测量被传送的该基底介质相对于处理方向的偏斜;以及钳口组件,用于在该处理方向移动该基底介质,该钳口组件包括用于啮合该基底介质的主动辊和空转辊,该主动辊可旋转地支撑在轴中心线上,该轴中心线被基本上在其一端可枢转地支撑以将该轴中心线与测量的基底介质偏斜对准,由此该轴中心线围绕垂直于该轴中心线的枢轴中心线枢转。
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