[发明专利]基底介质配准和纠偏装置、方法和系统有效
申请号: | 201010128193.0 | 申请日: | 2010-02-11 |
公开(公告)号: | CN101823639A | 公开(公告)日: | 2010-09-08 |
发明(设计)人: | 约瑟夫·J·费拉拉;约瑟夫·M·费拉拉 | 申请(专利权)人: | 施乐公司 |
主分类号: | B65H7/06 | 分类号: | B65H7/06;B65H23/038;B65H26/00 |
代理公司: | 上海华晖信康知识产权代理事务所(普通合伙) 31244 | 代理人: | 樊英如 |
地址: | 美国康*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 基底 介质 纠偏 装置 方法 系统 | ||
技术领域
当前公开的技术面向一种配准(registering)和纠偏 (de-skewing)基底介质操作组件(比如印刷系统)中的基底介质 装置、方法和系统。
背景技术
在印刷系统中,将基底介质按它在处理方向中传送(transfer) 的方式精确而可靠的配准是需要的。穿过图像转移(transfer)区域 的基底介质的甚至是轻微的偏斜或错位也可能导致图像和/或色彩 配准错误。例如,在印刷系统使用钳口组件或带传送基底介质时, 基底介质的轻微偏斜可能导致处理错误。并且,当基底介质在该印 刷系统的各部分之间传送时,偏斜的量可能增加或累积。在模块化 叠印(overprint)系统中,偏斜的累积会转化为模块退出和进入点 之间的基底介质定位误差,特别是在交叉处理(cross-processing) 方向。这种误差可能导致很大的推、拉或切变力的产生,这会被传 递到被传送的基底介质上。介质和轻量基底介质通常不能支撑很大 的力,很大的力会使得这种介质起皱、翘曲或撕裂。
相应地,需要提供一种配准和纠偏基底介质的装置、方法和系 统,其能克服现有技术中的缺点。
发明内容
根据此处描述的方面,公开一种用于在印刷系统中纠偏基底介 质的装置。该装置包括至少一个传感器,用于测量被传送的该基底 介质相对于处理方向的偏斜。该装置还包括钳口组件,用于在该处 理方向移动该基底介质。该钳口组件包括用于啮合该基底介质的主 动辊和空转辊。该主动辊可旋转地支撑在轴中心线上,其中该轴中 心线被基本上在其一端可枢转地支撑以将该轴中心线与测量的基 底介质偏斜对准。该轴中心线围绕垂直于该轴中心线的枢轴中心线 枢转。
根据本文公开的其它方面,提供一种用于在印刷系统中纠偏基 底介质的装置,其中该钳口组件可以围绕该枢转中心线枢转。而且, 该装置可进一步包括致动构件,用于围绕该枢轴中心线枢转该轴中 心线到与该基底介质的一个边缘平行的方位。另外,该致动元件基 本上被设置在该轴中心线相对于该枢转支撑的相对端。进一步,该 致动构建可包括凸轮组件。再进一步,该至少一个传感器包括设置 于该处理方向上在该钳口组件之前的至少两个传感器。又进一步, 该至少两个传感器可在交叉处理方向间隔开,其中该两个传感器之 间的直线平行于缺省位置的轴中心线。该枢转支撑可以包括球面轴 承元件。而且,该致动构件和该传感器可耦合于控制系统以响应传 感器测量值致动钳口组件。该空转辊可朝该主动辊偏置。
根据此处描述的进一步的方面,提供一种在印刷系统中纠偏基 底介质的方法。该方法包括测量在处理方向传送的基底介质的偏斜 角度。然后,枢转配准钳口组件的旋转中心线以匹配该偏斜角度。 该旋转中心线围绕横切该处理方向的中心线配置的支撑枢转。在该 基底介质与该配准钳口组件啮合后,枢转该旋转中心线到垂直于该 处理方向的位置。
根据此处描述的再进一步的方面,该方法还包括在枢转该旋转 中心线到垂直于该处理方向之前,将该基底介质从其它的钳口组件 去啮合。而且该其它的钳口组件被置于该配准钳口组件相对于该处 理方向的上游。另外,变换该旋转中心线到交叉处理方向。进一步, 测量并调整该基底介质速度。又进一步,在与该钳口组件啮合之前, 从该基底介质的边缘测量该基底介质的该偏斜角度。该旋转中心线 的枢转可由凸轮组件控制。而且,该凸轮组件可由马达响应于该偏 斜角度测量值致动。该配准钳口组件旋转中心线可围绕球面轴承组 件枢转。该偏斜角度测量值可以由至少一个置于该处理方向上该钳 口组件上游的传感器执行。该球面轴承元件可被置于该钳口组件的 与凸轮组件相对一端。
附图说明
图1是用于印刷系统的基底介质配准和纠偏装置的部分侧视示 意图。
图2是用于印刷系统的基底介质配准和纠偏装置的部分俯视示 意图。
图3是图2的装置的部分俯视示意图,其中钳口组件被偏斜以基 本上顺应操作的基底介质。
图4是图3的装置的部分俯视示意图,其中该钳口组件和基底介 质被调整到缺省位置。
具体实施方式
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