[发明专利]提高分光器性能的方法及分光器、X射线测量分析设备无效
| 申请号： | 201010126507.3 | 申请日： | 2010-03-16 |
| 公开（公告）号： | CN101806757A | 公开（公告）日： | 2010-08-18 |
| 发明（设计）人： | 周俊武;徐宁;赵建军;李杰;徐晓东;缪天宇;卞宁 | 申请（专利权）人： | 北京矿冶研究总院 |
| 主分类号： | G01N23/20 | 分类号： | G01N23/20 |
| 代理公司： | 北京凯特来知识产权代理有限公司 11260 | 代理人： | 郑立明;田治 |
| 地址： | 100044 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种提高分光器性能的方法及分光器、X射线测量分析设备，属光学测量技术领域。该方法适用的分光器包括：壳体、入射狭缝组件、分光晶体和出射狭缝组件；其中，所述入射狭缝组件和出射狭缝组件均设置在壳体上，所述分光晶体设置在壳体内作为入射狭缝组件与出射狭缝组件之间的反射体；该方法包括：在分光器壳体内设置射线挡块，使所述射线挡块设置在壳体内分光晶体周围，通过射线挡块吸收或阻挡从入射狭缝组件进入的能照射到壳体内壁上的部分X射线，及吸收或阻挡通过分光晶体反射后能照射到壳体内壁上的部分X射线。采用该方法后，可以对射线在分光器内的传播路径进行校正，避免漫反射的X射线的影响，显著提高分光器的性能。 | ||
| 搜索关键词： | 提高 分光 性能 方法 射线 测量 分析 设备 | ||
【主权项】：
一种提高分光器性能的方法，该分光器包括：壳体、入射狭缝组件、分光晶体和出射狭缝组件；其中，所述入射狭缝组件和出射狭缝组件均设置在壳体上，所述分光晶体设置在壳体内作为入射狭缝组件与出射狭缝组件之间的反射体；其特征在于，包括：在分光器壳体内设置射线挡块，使所述射线挡块设置在壳体内分光晶体周围，通过射线挡块吸收或阻挡从入射狭缝组件进入的能照射到壳体内壁上的部分X射线，及吸收或阻挡通过分光晶体反射后能照射到壳体内壁上的部分X射线。
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