[发明专利]一种高硬度氮化锆硬质涂层的制备方法无效
| 申请号： | 201010111641.6 | 申请日： | 2010-02-11 |
| 公开（公告）号： | CN101775585A | 公开（公告）日： | 2010-07-14 |
| 发明（设计）人： | 王周成;祁正兵;黄若轩;孙鹏;朱芳萍 | 申请（专利权）人： | 厦门大学 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/06;C23C14/02;C23C14/54 |
| 代理公司： | 厦门南强之路专利事务所 35200 | 代理人： | 马应森 |
| 地址： | 361005福*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 一种高硬度氮化锆硬质涂层的制备方法，涉及一种硬质涂层的制备方法。基体预处理：将硬质合金基体研磨，抛光后清洗，烘干待用；先进行预溅射后，再进行溅射沉积。采用磁控溅射法通过控制溅射沉积的气氛、基体温度以及基体偏压等工艺条件在硬质合金基体表面制备氮化锆硬质涂层的方法，以提高氮化锆涂层的硬度。在经过机械抛光、超声清洗以及离子源清洗处理过的硬质合金基体表面，采用直流电源进行磁控溅射沉积，控制总压强0.3～0.5Pa、氮气流量15％～20％，Zr靶材直流功率为250～300W，基体温度为300～450℃，基体偏压为负50～100V，沉积时间为90～120min，涂层具有高的硬度，可达30GPa以上。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 硬度 氮化 硬质 涂层 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种高硬度氮化锆硬质涂层的制备方法，其特征在于包括以下步骤：1)基体预处理将硬质合金基体研磨，抛光后清洗，烘干待用；2)对预处理后的基体进行溅射沉积，得高硬度氮化锆硬质涂层。
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