[发明专利]光刻机中掩模版的上版方法有效
| 申请号： | 201010110214.6 | 申请日： | 2010-02-11 |
| 公开（公告）号： | CN102156393A | 公开（公告）日： | 2011-08-17 |
| 发明（设计）人： | 郑椰琴;齐芊枫 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司;上海微高精密机械工程有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 201203 上海*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提出一种光刻机中掩模版的上版方法，包括以下步骤：通过上版机械手夹持掩模版移动至掩膜台的上方；接版机械手与上版机械手完成掩模版的交接，并由接版机械手将掩模版放至掩模台；以及通过掩模台的微动实现掩模版的精密预对准。本发明中的光刻机中掩模版的上版方法降低了预对准时对光源和传感器的要求以及掩模版上版机械手的结构设计难度和精度，同时降低了上版机械手的装配要求，消除了掩模版交接过程对预对准精度的影响。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 机中掩 模版 方法 | ||
【主权项】：
一种光刻机中掩模版的上版方法，其用于光刻机中，光刻机包括上版机械手、掩模台、掩模版和接版机械手，其特征在于，该光刻机中掩模版的上版方法包括以下步骤：步骤a：通过上版机械手夹持掩模版移动至掩模台的上方；步骤b：接版机械手与上版机械手完成掩模版的交接，并由接版机械手将掩模版放至掩模台；步骤c：通过掩模台的微动实现掩模版的精密预对准。
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