[发明专利]一种带隙可调控的硅基异质结太阳电池无效

专利信息
申请号: 201010101970.2 申请日: 2010-01-28
公开(公告)号: CN101771097A 公开(公告)日: 2010-07-07
发明(设计)人: 倪开禄;彭德香;沈文忠;司新文;张剑;孟凡英;彭铮;何宇亮;高华;李正平;李长岭;刘洪 申请(专利权)人: 上海超日太阳能科技股份有限公司
主分类号: H01L31/068 分类号: H01L31/068;H01L31/06;H01L31/042
代理公司: 上海泰能知识产权代理事务所 31233 代理人: 黄志达;谢文凯
地址: 201406 上海市奉*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明涉及一种带隙可调控的硅基异质结太阳电池,结合了晶体硅与薄膜材料的特点,形成一种非晶硅碳/非晶硅/微晶硅/晶体硅太阳电池结构,有利于减弱非晶硅薄膜的光致衰减效应,提高太阳电池的稳定性;在不同种类或结构的半导体材料界面形成双异质结,充分利用二维电子气效应,有效提高了载流子产额;所形成的高低异质结电场有利于非平衡少数载流子的迁移,减少复合效应;利用不同带隙半导体材料组成的窗口效应,实现了材料对不同频率波段光的选择吸收,增加了入射光的总体有效利用,以提高太阳能电池的光电转换效率,推进光伏发电事业的发展。
搜索关键词: 一种 带隙可 调控 硅基异质结 太阳电池
【主权项】:
一种带隙可调控的硅基异质结太阳电池,包括n型非晶硅碳薄膜层、n型非晶硅薄膜层、n型微晶硅薄膜层、晶体硅材料层,其特征在于,所述的n型非晶硅碳薄膜层、n型非晶硅薄膜层、n型微晶硅薄膜层、晶体硅材料层依序自上而下叠层结合;所述的n型非晶硅碳薄膜层、n型非晶硅薄膜层、n型微晶硅薄膜层掺杂浓度依次控制为n++、n+与n;所述的晶体硅材料层为p型硅基底或进行了n型掺杂扩散处理的p型硅基底;所述的n型非晶硅碳薄膜层与所述的n型非晶硅薄膜层之间形成一个异质结结构,所述的n型非晶硅薄膜层与所述的n型微晶硅薄膜层之间形成一个异质结结构;所述的n型非晶硅碳薄膜层上制有一层包括钝化膜和/或透明导电薄膜的上叠层;所述的上叠层上有受光面接触电极;所述的晶体硅材料层的下表面有背表面场;所述的背表面场下有背电极。
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