[发明专利]一种增强分子拉曼散射的基底制作方法有效
| 申请号： | 201010101588.1 | 申请日： | 2010-01-26 |
| 公开（公告）号： | CN101776604A | 公开（公告）日： | 2010-07-14 |
| 发明（设计）人： | 邓启凌;杜春雷;杨兰英;史立芳;尹韶云 | 申请（专利权）人： | 中国科学院光电技术研究所 |
| 主分类号： | G01N21/65 | 分类号： | G01N21/65;B82B3/00 |
| 代理公司： | 北京科迪生专利代理有限责任公司 11251 | 代理人： | 成金玉;贾玉忠 |
| 地址： | 610209*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 一种增强分子拉曼散射的基底制作方法，(1)选用衬底材料、清洗并作亲水处理；(2)在衬底表面制作出微纳结构层；(3)将微纳结构层金属化，获得附着有纳米金属结构的衬底；(4)对步骤(3)得到的衬底表面修饰，得到表面装饰层，所述的表面修饰为根据待探测分子性质，制备气敏界面、或分子生物膜、或吸附膜、或表面活化材料，以提高基底富集待测分子的能力并对基底进行活化的行为；(5)对带有表面修饰层的衬底附加待测分子；(6)改变衬底周围外部介质环境，以提高待测分子拉曼散射增强效应；所述的衬底周围外部介质环境包括周围环境材料、或激发光波长、或光场分布、或磁场分布。本发明可用于高灵敏度探测，同时该基底具有可控性、一致性、重复性、稳定性高等优点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 增强 分子 散射 基底 制作方法 | ||
【主权项】：
一种增强分子拉曼散射的基底制作方法，其特征在于：所述的基底由衬底、金属微纳结构层、表面的修饰层及外部介质环境四部分组成，其制作如下：(1)选用衬底材料、清洗并作亲水处理；(2)在衬底表面制作出微纳结构层；(3)将微纳结构层金属化，获得附着有金属纳米结构层的衬底；(4)对步骤(3)得到的衬底表面修饰，得到表面装饰层，所述的表面修饰为根据待探测分子性质，制备气敏界面、或分子生物膜、或吸附膜、或表面活化材料，以提高基底富集待测分子的能力并对基底进行活化的行为；(5)对带有表面修饰层的衬底附加待测分子；(6)改变衬底周围外部介质环境，以提高待测分子拉曼散射增强效应；所述的衬底周围外部介质环境包括周围环境材料、或激发光波长、或光场分布、或磁场分布。
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