[发明专利]粒子射线照射装置有效
| 申请号： | 200980159045.0 | 申请日： | 2009-06-09 |
| 公开（公告）号： | CN102414760A | 公开（公告）日： | 2012-04-11 |
| 发明（设计）人： | 岩田高明 | 申请（专利权）人： | 三菱电机株式会社 |
| 主分类号： | G21K5/04 | 分类号： | G21K5/04;A61N5/10 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 张鑫 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的目的在于提供一种能够实现高精度的射束照射位置的粒子射线照射装置。包括逆映射单元，该逆映射单元具有逆映射数学模型，该逆映射数学模型基于照射对象的带电粒子束的目标照射位置坐标，来生成实现该照射的扫描电磁铁的指令值及带电粒子束的动能的指令值，根据基于照射对象的带电粒子束的目标照射位置坐标、使用所述逆映射数学模型而生成的所述指令值，来控制上述扫描电磁铁及带电粒子束的动能，以将带电粒子束进行扫描，来照射至照射对象。 | ||
| 搜索关键词： | 粒子 射线 照射 装置 | ||
【主权项】：
一种粒子射线照射装置，利用扫描电磁铁将由加速器进行了加速的带电粒子束进行扫描并照射至照射对象，其特征在于，包括逆映射单元，该逆映射单元具有逆映射模型，该逆映射模型基于照射对象的带电粒子束的目标照射位置坐标，来生成实现该照射的所述扫描电磁铁的指令值及带电粒子束的动能的指令值，根据基于照射对象的带电粒子束的目标照射位置坐标、使用所述逆映射数学模型而生成的所述指令值，来对所述扫描电磁铁及带电粒子束的动能进行控制，以将带电粒子束进行扫描，来照射至照射对象。
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